近接場光ヘッド、近接場光ヘッドの製造方法、光情報記録装置、及び光情報再生装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000300438
Publication number (International publication number)：2002109779
Application date： Sep. 29, 2000
Publication date： Apr. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】マルチヘッド化が容易な、放熱性が高い、或いは製造が容易な近接場光ヘッド、そのような近接場光ヘッドの製造方法、並びにそのような近接場光ヘッドを用いた光情報記録装置及び光情報再生装置を提供すること。【解決手段】本発明によると、金属材料からなる基体11と、前記基体11に設けられ一方の開口から光を入射させることにより他方の開口から近接場光を出射する貫通孔12とを備えたことを特徴とする近接場光ヘッド10、そのような近接場光ヘッド10の製造方法、並びにそのような近接場光ヘッド10を用いた光情報記録装置及び光情報再生装置が提供される。

Claim (excerpt)：

金属材料からなる基体と、前記基体に設けられ一方の開口から光を入射させることにより他方の開口から近接場光を出射する貫通孔とを備えたことを特徴とする近接場光ヘッド。

IPC (4)：

G11B 7/135 , G01N 13/10 , G01N 13/14 , G11B 7/22

FI (4)：

G11B 7/135 Z , G01N 13/10 G , G01N 13/14 B , G11B 7/22

F-Term (7)：

5D119AA35 , 5D119AA38 , 5D119JA43 , 5D119JA49 , 5D119JC05 , 5D119MA06 , 5D119NA03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

エバネッセント光露光用マスク、その製造方法およびその製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-067122 Applicant：キヤノン株式会社
微小突起を有するプローブ、及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-218505 Applicant：キヤノン株式会社
微小開口を有するプローブ、及び該プローブを有する情報処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-249109 Applicant：キヤノン株式会社

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