光触媒及び光触媒の製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002263864
Publication number (International publication number)：2004097954
Application date： Sep. 10, 2002
Publication date： Apr. 02, 2004
Summary：

【課題】基材と光触媒薄膜との接着性が良好であり、且つ、良好な有機物分解性を示す光触媒を生産性よく製造する方法を提供する。【解決手段】基材上に直接または、該基材上のその他の層を介して、少なくとも光触媒用半導体材料を含有する光触媒層を有する光触媒において、大気圧または大気圧近傍の圧力下、光触媒用半導体材料を形成するための反応性ガスをプラズマ状態とし、該基材または前記基材上のその他の層を、該プラズマ状態の反応性ガスに晒すことにより該光触媒層が形成されていることを特徴とする光触媒。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基材上に直接または、該基材上のその他の層を介して、少なくとも光触媒用半導体材料を含有する光触媒層を有する光触媒において、大気圧または大気圧近傍の圧力下、光触媒用半導体材料を形成するための反応性ガスをプラズマ状態とし、該基材または前記基材上のその他の層を、該プラズマ状態の反応性ガスに晒すことにより該光触媒層が形成されていることを特徴とする光触媒。

IPC (6)：

B01J35/02 , B01J21/06 , B01J21/08 , B01J37/02 , B01J37/34 , C23C16/40

FI (6)：

B01J35/02 J , B01J21/06 M , B01J21/08 M , B01J37/02 301P , B01J37/34 , C23C16/40

F-Term (27)：

4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA02B , 4G069BA04B , 4G069BA21C , 4G069BA48A , 4G069BC70C , 4G069CD10 , 4G069DA05 , 4G069EC28 , 4G069ED02 , 4G069FA01 , 4G069FB03 , 4G069FB14 , 4G069FB48 , 4G069FB58 , 4G069FC04 , 4G069FC06 , 4K030AA11 , 4K030AA16 , 4K030AA17 , 4K030BA46 , 4K030BB00 , 4K030JA09 , 4K030JA16 , 4K030JA18 , 4K030LA11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

酸化チタン薄膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-079894 Applicant：新技術事業団
光増感剤が付着された酸化チタン光触媒
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-356382 Applicant：株式会社ソウケン
新規な金属酸化物粒子およびその用途
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-302389 Applicant：触媒化成工業株式会社

Show all

Return to Previous Page