レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005141633
Publication number (International publication number)：2006317794
Application date： May. 13, 2005
Publication date： Nov. 24, 2006
Summary：

【課題】 IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、露光マージンが広く、疎密依存性が小さい優れた感光性組成物を提供する。【解決手段】活性光線または放射線の照射によりスルホン酸基を複数有する特定の酸を発生する化合物を含有する感光性組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)一般式(I)で表される化合物、および (H)有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F7/004 501 , H01L21/30 502R

F-Term (15)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-125949 Applicant：富士写真フイルム株式会社
レジストの基板依存性改善剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-134343 Applicant：和光純薬工業株式会社
化学増幅ネガ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-154947 Applicant：住友化学工業株式会社

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