化学増幅ネガ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999154947
Publication number (International publication number)：2000347392
Application date： Jun. 02, 1999
Publication date： Dec. 15, 2000
Summary：

【要約】【課題】解像度が向上した化学増幅ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、架橋剤、下式(I)(式中、Rは、無置換の若しくは置換されたアルキル、脂環式炭化水素残基、アリール又はカンファー基を表す)で示されるN-置換スクシンイミド化合物、及びこのN-置換スクシンイミド化合物とは別の酸発生剤を含有する化学増幅ネガ型レジスト組成物が提供される。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、架橋剤、下式(I)(式中、Rは、無置換の若しくは置換されたアルキル、脂環式炭化水素残基、アリール又はカンファー基を表す)で示されるN-置換スクシンイミド化合物、及び該N-置換スクシンイミド化合物とは別の酸発生剤を含有することを特徴とする、化学増幅ネガ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 501 , G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (12)：

2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB17 , 2H025CB29 , 2H025CB45 , 2H025CB52 , 2H025CB55 , 2H025CC01 , 2H025CC17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

ネガ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-347019 Applicant：日本合成ゴム株式会社
フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-005794 Applicant：住友化学工業株式会社
水性塩基現像可能なフォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-262200 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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