露光用マスクおよびその製造方法・露光用マスクを用いる表面形状形成方法および露光用マスク製造装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：樺山亨 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994021114
Publication number (International publication number)：1995230159
Application date： Feb. 18, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：

【要約】【目的】所望の透過率分布を持った露光用マスクを実現する。【構成】所望の透過率分布に応じて、ドットパターンの形状をよびドット濃度の分布を演算算出し、出力を段階的もしくは連続的に変化させ得る光源装置10,22からの光束によりドットパターンの光書込みを行う出力可変書込み装置の出力を、演算算出されたドットパターンの形状およびドット濃度に応じて変化させつつ感光媒体30に書込みを行い、ドットパターンを書き込まれた感光媒体30を現像して、ドットパターンの形状とドット濃度分布とにより2次元的な所望の透過率分布を有する露光用マスクを得る。

Claim (excerpt)：

所望の2次元的な透過率分布を有する露光用マスクを製造する方法であって、所望の透過率分布に応じて、ドットパターンの形状およびドット濃度の分布を演算算出し、出力を段階的もしくは連続的に変化させ得る光源装置からの光束によりドットパターンの光書込みを行う出力可変書込み装置の上記出力を、上記演算算出されたドットパターンの形状およびドット濃度の分布に応じて変化させつつ感光媒体に書込みを行い、ドットパターンを書き込まれた上記感光媒体を現像して、上記ドットパターンの形状とドット濃度の分布とにより2次元的な所望の透過率分布を有する露光用マスクを得ることを特徴とする露光用マスクの製造方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 , G03F 7/20 505 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 529

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

特開昭54-103101
特開昭56-167144
特開平2-214375

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