有機回路の作製プロセス

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡部正夫 (外11名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000090010
Publication number (International publication number)：2000307172
Application date： Mar. 29, 2000
Publication date： Nov. 02, 2000
Summary：

【要約】【課題】本発明は、有機回路の作製プロセスを提供する。【解決手段】有機半導体薄膜はたとえば溶液成型により、有機半導体材料及び溶媒を含む溶液を基板に供給し、溶媒を蒸発させることによって形成される。基板表面の特性、有機半導体材料及びプロセスパラメータは、所望の核生成及び結晶成長が起るよう選択される。得られた有機半導体薄膜は、室温において少なくとも約10-4cm2V-1s-1の比較的高いキャリヤ移動度を示すたとえば1cm2より大きな連続した領域を含む。

Claim (excerpt)：

基板を準備する工程;溶媒及び有機半導体化合物を含む溶液を準備する工程;非スピン技術により、基板表面上に溶液を供給する工程;及び室温で少なくとも約10-4cm2V-1s-1の荷電キャリヤ移動度を示す1cm2より大きな連続した領域を含む有機半導体薄膜を形成するため、溶媒を蒸発させる工程を含む有機回路の作製プロセス。

IPC (3)：

H01L 51/00 , H01L 21/368 , H01L 29/786

FI (3)：

H01L 29/28 , H01L 21/368 L , H01L 29/78 618 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

配向積層膜とその製造方法及びそれを用いた有機電子素子とその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-009074 Applicant：松下電器産業株式会社
表面伝導型電子放出素子およびその製造方法、ならびに同電子放出素子を備えた電子源、画像形成装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-078163 Applicant：キヤノン株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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