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J-GLOBAL ID:200903003252313146

レーザ加工方法及び加工装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 後藤 洋介 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000086109
Publication number (International publication number):2001269790
Application date: Mar. 27, 2000
Publication date: Oct. 02, 2001
Summary:
【要約】【課題】 加工速度の向上を図ることができると共に、光学系の位置的な制約をできるだけ受けずに済むようなレーザ加工装置を提供すること。【解決手段】 レーザ発振器1からのレーザ光を第1の偏光成分と第2の偏光成分とに分光する偏光ビームスプリッタ2と、第1の偏光成分をワーク3上の所望の位置に照射するように二軸方向に振らせるためのガルバノスキャナ4と、第2の偏光成分をワーク上の所定の位置に照射するように二軸方向に振らせるためのガルバノスキャナ5と、第1の偏光成分を偏光ビームスプリッタ6において虚像として投影させるためのコリメートレンズ7と、第2の偏光成分を偏光ビームスプリッタ6において虚像として投影させるためのコリメートレンズ8とを含む。偏光ビームスプリッタ6は、コリメートレンズ7、8からの第1、第2の偏光成分を共通の光路上にあるように重ね、2種類のレーザ光を出射する。fθレンズ9は、偏光ビームスプリッタ6からの2種類のレーザ光をワークに照射する。
Claim (excerpt):
レーザ発振器からのレーザ光を第1の偏光ビームスプリッタにより第1の偏光成分と第2の偏光成分とに分け、前記第1の偏光成分を第1のガルバノスキャナに導き、前記第2の偏光成分を第2のガルバノスキャナに導き、前記第1のガルバノスキャナ、前記第2のガルバノスキャナからのレーザ光をそれぞれ、第2の偏光ビームスプリッタに導入して2種類のレーザ光を共通の光路上にあるように重ね合わせ、該第2の偏光ビームスプリッタからの2種類のレーザ光をそれぞれfθレンズを通して被加工部材の異なる位置に照射して同時加工を行うことを特徴とするレーザ加工方法。
IPC (3):
B23K 26/06 ,  B23K 26/00 330 ,  H05K 3/00
FI (4):
B23K 26/06 E ,  B23K 26/06 C ,  B23K 26/00 330 ,  H05K 3/00 N
F-Term (5):
4E068CB10 ,  4E068CD03 ,  4E068CD06 ,  4E068CD08 ,  4E068CD13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 特開平4-354532
  • 高速レーザ加工装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-041280   Applicant:日立建機株式会社
  • レーザマーキング装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-159080   Applicant:日本電気株式会社
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Cited by examiner (4)
  • 特開平4-354532
  • 高速レーザ加工装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-041280   Applicant:日立建機株式会社
  • レーザマーキング装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-159080   Applicant:日本電気株式会社
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