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J-GLOBAL ID:200903003272443356
圧力勾配型電子ビーム励起プラズマ発生装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
関 正治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998082751
Publication number (International publication number):1998326695
Application date: Mar. 13, 1998
Publication date: Dec. 08, 1998
Summary:
【要約】【課題】 電子ビームの電流とエネルギの独立制御が可能で多様な仕様に適合できる経済的な圧力勾配型電子ビーム励起プラズマ発生装置を提供する。【解決手段】 カソード室7と放電室8と加速電極20を備えたプロセス室2とをこの順に配置し、カソード室7に放電用ガスを流入させてカソード4と放電陽極6の間に通電して放電プラズマを生成し、放電陽極6と加速電極20の間に通電して電子を引き出し加速しプロセス室2に導入しプロセス室内の原料ガスを電離解離させる。中間電極5に設けた細孔13によりカソード室7からプロセス室2まで圧力勾配を生じさせて放電用ガスをプロセス室から排気するようにする。また、加速電極20を放電陽極6の対向位置に配置することが好ましい。
Claim (excerpt):
カソードと中間電極と放電陽極とを設け該中間電極によりカソード室と放電室に区分した放電部と加速電極を設けたプロセス室とを備え、カソード室、放電室、プロセス室の順に配置して、前記カソードと前記放電陽極の間に放電用直流電源を接続し、前記放電陽極と前記加速電極の間に電子加速用直流電源を接続した圧力勾配型電子ビーム励起プラズマ発生装置であって、前記カソード室に放電用ガスを流入させ、前記カソードと前記放電陽極の間に放電プラズマを生成し、前記放電部から電子を引き出し加速して前記プロセス室に導入することにより該プロセス室内において供給される原料ガスを電離解離させると共に、前記中間電極に細孔を設けることにより前記カソード室から前記プロセス室まで圧力勾配を生じさせて前記放電用ガスを前記プロセス室に流入させて排気するようにしたことを特徴とする圧力勾配型電子ビーム励起プラズマ発生装置。
IPC (7):
H05H 1/24
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01J 27/08
, H01J 37/32
, H01L 21/302
, C23C 14/30
FI (7):
H05H 1/24
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, H01J 27/08
, H01J 37/32
, C23C 14/30 B
, H01L 21/302 Z
Patent cited by the Patent: