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J-GLOBAL ID：200903003299618131

マスクデータ検証装置、マスクデータ作成装置、マスクデータ検証方法、マスクデータ作成方法及び補助パターンマスク作成方法

Inventor： 松岡 晃次 ,  三坂 章夫 ,  笹子 勝
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994213681
Publication number (International publication number)：1996076348
Application date： Sep. 07, 1994
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 設計データから所望の領域を選択してリソグラフィ行程で所望の寸法値が得られない箇所を検証抽出し、さらにその箇所を修正することを目的とする。【構成】 設計データから所望の領域を選択してデータを取り込む機能aと、選択した領域の光強度を計算する機能bと、レジストの現像溶解速度を計算する機能cと、前記光強度とレジスト溶解速度によりレジスト形状を計算する機能dと、前記光強度とレジスト形状により所望の寸法値が得られない箇所を検証抽出する。

Claim (excerpt)：

マスクデータ中から検査を行なう領域を選択する検査領域抽出手段と、選択された前記領域の光強度を計算する光強度計算手段と、レジストの現像溶解速度を計算する現像溶解速度計算手段と、前記光強度計算手段及び前記レジスト溶解速度計算手段の結果からレジスト形状を計算する形状計算手段と、前記マスクデータと前記形状計算手段により得られた結果を比較し所望の寸法値が得られない箇所を検証抽出する検証抽出手段とを備えたマスクデータ検証装置。

IPC (4)：

G03F 1/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 29/78 ,  H01L 21/336

FI (4)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 502 W ,  H01L 29/78 301 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 図形演算処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-253636   Applicant：三菱電機株式会社
• パターン形状の変形方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-213225   Applicant：シャープ株式会社
• マスクパタンの設計方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-123331   Applicant：日本電信電話株式会社