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J-GLOBAL ID：200903003305194667

脱窒機能を有する水処理装置

Inventor：
平根 健

About 平根 健


Applicant, Patent owner：
ダイワ工業株式会社

About ダイワ工業株式会社


Agent (1)： 大島 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998172462
Publication number (International publication number)：2000005795
Application date： Jun. 19, 1998
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：
【要約】【課題】 脱窒機能を備えた水処理装置の小型化並びに構成の簡略化を図る。【解決手段】 好気性処理部2の後段に嫌気性処理部3を設け、この嫌気性処理部には微生物の担持体を多数充填してなるろ層5を形成し、このろ層に増殖した硫酸塩還元菌により硫黄分を還元すると共に、これで得られた硫化物を利用して好気性処理部で生成した硝酸性窒素をろ層に増殖した硫黄脱窒菌によりガス化するようにする。特に、微生物の担持体に水中に浮遊可能なプラスチック発泡体からなる浮遊ろ材を用いる。
Claim (excerpt)：
好気性処理部と嫌気性処理部とを有し、前記好気性処理部では、有機物の分解・固定化と共に、硝化菌により窒素分を硝酸性窒素に酸化する硝化を行い、前記嫌気性処理部では、前記硝酸性窒素をガス化する脱窒を行うようにした脱窒機能を有する水処理装置であって、前記好気性処理部の後段に前記嫌気性処理部を設け、該嫌気性処理部には、微生物の担持体を多数充填してなるろ層を形成し、該ろ層に増殖した硫酸塩還元菌により硫黄分を還元すると共に、これで得られた硫化物を利用して前記ろ層に増殖した硫黄脱窒菌により前記硝酸性窒素をガス化するようにしたことを特徴とする脱窒機能を有する水処理装置。
IPC (3)：
C02F 3/34 101 ,  C02F 3/34 ZAB ,  C02F 3/10
FI (3)：
C02F 3/34 101 D ,  C02F 3/34 ZAB Z ,  C02F 3/10 A
F-Term (10)：
4D003AA12 ,  4D003AB02 ,  4D003DA22 ,  4D003EA19 ,  4D003EA28 ,  4D040BB52 ,  4D040BB82 ,  4D040DD14 ,  4D040DD16 ,  4D040DD31
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (10)
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Cited by examiner (10)
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