常圧プラズマ処理方法及びその装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：河備健二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000346865
Publication number (International publication number)：2002155370
Application date： Nov. 14, 2000
Publication date： May. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】大気圧近傍の圧力下の常圧プラズマ処理方法において、プラズマを被処理体に接触させる際、安定したプラズマを被処理体に接触させ、処理を効率的に行うことができる常圧プラズマ処理方法及びその装置を提供。【解決手段】大気圧近傍の圧力下で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間に処理ガスを導入して電極間に電界を印加することにより得られるプラズマを被処理体に接触させて被処理体を処理する方法であって、該プラズマを被処理体に接触させる際、放電状態が安定するまで予備放電を行い、その後にプラズマを被処理体に接触させることを特徴とする常圧プラズマ処理方法及び装置。

Claim (excerpt)：

大気圧近傍の圧力下で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間に処理ガスを導入して電極間に電界を印加することにより得られるプラズマを被処理体に接触させて被処理体を処理する方法であって、該プラズマを被処理体に接触させる際、放電状態が安定するまで予備放電を行い、その後にプラズマを被処理体に接触させることを特徴とする常圧プラズマ処理方法。

IPC (6)：

C23C 16/513 , B01J 19/08 , C23C 16/515 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H05H 1/24

FI (6)：

C23C 16/513 , B01J 19/08 H , C23C 16/515 , H01L 21/205 , H05H 1/24 , H01L 21/302 B

F-Term (40)：

4G075AA24 , 4G075BA05 , 4G075BC06 , 4G075BD14 , 4G075CA47 , 4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030AA13 , 4K030AA16 , 4K030BA40 , 4K030CA07 , 4K030CA12 , 4K030EA06 , 4K030FA03 , 4K030JA09 , 4K030JA11 , 4K030JA18 , 4K030KA30 , 5F004BA20 , 5F004DA00 , 5F004DA22 , 5F045AA08 , 5F045AB03 , 5F045AB04 , 5F045AC01 , 5F045AC17 , 5F045AE29 , 5F045BB02 , 5F045BB08 , 5F045DP03 , 5F045EB02 , 5F045EE14 , 5F045EF02 , 5F045EH04 , 5F045EH05 , 5F045EH07 , 5F045EH09 , 5F045EH20 , 5F045EM09 , 5F045EM10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開平3-054196
放電プラズマ処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-286601 Applicant：積水化学工業株式会社
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-344735 Applicant：松下電工株式会社

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