光強度分布補正光学系およびそれを用いた光学顕微鏡

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005137132
Publication number (International publication number)：2006317508
Application date： May. 10, 2005
Publication date： Nov. 24, 2006
Summary：

【課題】光源からの発散光の光強度分布を均一化すると共に光利用効率を向上させ、光源のNAの違いを容易に吸収し、かつローコストな光強度分布補正光学系およびそれを用いた光学顕微鏡を提供する。【解決手段】入射光の強度分布を必要な視野内で平坦な強度分布に補正する光強度分布補正光学系において、少なくとも1つのレンズから成る正の屈折力をもつ第1レンズ群と、前記第1レンズ群の後段に配置され、少なくとも1つのレンズから成る負の屈折力を持つ第2レンズ群と、前記第2レンズ群の後段に配置され、少なくとも1つのレンズから成る正の屈折力を持つ第3レンズ群と、を有し、発散して出射される点光源からの入射光をコリメートすると共に、各レンズ群の球面収差により前記入射光の強度分布を平坦にして出射することを特徴とする光強度分布補正光学系。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

入射光の強度分布を必要な視野内で平坦な強度分布に補正する光強度分布補正光学系において、少なくとも1つのレンズから成る正の屈折力をもつ第1レンズ群と、前記第1レンズ群の後段に配置され、少なくとも1つのレンズから成る負の屈折力を持つ第2レンズ群と、前記第2レンズ群の後段に配置され、少なくとも1つのレンズから成る正の屈折力を持つ第3レンズ群と、を有し、発散して出射される点光源からの入射光をコリメートすると共に、各レンズ群の球面収差により前記入射光の強度分布を平坦にして出射することを特徴とする光強度分布補正光学系。

IPC (4)：

G02B 27/09 , G02B 13/00 , G02B 13/08 , G02B 21/26

FI (4)：

G02B27/00 E , G02B13/00 , G02B13/08 , G02B21/26

F-Term (29)：

2H052AA08 , 2H052AC18 , 2H052AC34 , 2H052BA02 , 2H052BA07 , 2H052BA09 , 2H087KA09 , 2H087LA24 , 2H087LA25 , 2H087LA28 , 2H087PA02 , 2H087PA17 , 2H087PA18 , 2H087PB02 , 2H087PB03 , 2H087QA01 , 2H087QA02 , 2H087QA07 , 2H087QA13 , 2H087QA14 , 2H087QA21 , 2H087QA22 , 2H087QA25 , 2H087QA33 , 2H087QA34 , 2H087QA41 , 2H087QA42 , 2H087QA45 , 2H087RA07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

共焦点用光スキャナ及び共焦点顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-034927 Applicant：横河電機株式会社
共焦点用光スキャナ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-250653 Applicant：横河電機株式会社
光強度変換素子及び光学装置及び光ディスク装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-057003 Applicant：富士通株式会社