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J-GLOBAL ID：200903003485686988

オゾン水製造方法及び装置

Inventor：
山中 弘次

About 山中 弘次


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (1)： 赤塚 賢次 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998188539
Publication number (International publication number)：2000015272
Application date： Jul. 03, 1998
Publication date： Jan. 18, 2000
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 オゾン水の自己分解速度を遅くして、工場内の広範囲に分散した複数のユースポイントに対しても、1台のオゾン水製造装置でオゾン水を集中製造供給可能とし、必要量に対して大過剰のオゾンを製造する必要がなく、ユースポイントにおける過飽和酸素による発泡が少なく、濃度の安定した水を供給できるオゾン水製造方法及び装置を提供する。【解決手段】 該超純水製造装置で製造された超純水にオゾンを溶解させるオゾン溶解手段とを備え、超純水製造装置は系統内の紫外線酸化手段を有しないか、あるいは紫外線照射手段を設けた場合、紫外線照射手段によって生成された過酸化水素を過酸化水素除去手段で除去した超純水をオゾン溶解手段に供給するオゾン水製造装置並びにオゾン水製造方法において、超純水中の過酸化水素濃度をオゾン溶解前において、15μg/L 以下とする。
Claim (excerpt)：
超純水にオゾンを溶解させてオゾン水を製造するオゾン水製造方法において、前記超純水中の過酸化水素濃度をオゾン溶解前において、15μg/L 以下とすることを特徴とするオゾン水製造方法。
IPC (5)：
C02F 1/78 ,  B01J 31/08 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58
FI (5)：
C02F 1/78 ,  B01J 31/08 M ,  C02F 1/28 Z ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 H
F-Term (64)：
4D024AA03 ,  4D024AB04 ,  4D024AB14 ,  4D024BA02 ,  4D024BA17 ,  4D024BB01 ,  4D024CA01 ,  4D024DA04 ,  4D024DB03 ,  4D024DB04 ,  4D024DB05 ,  4D024DB10 ,  4D024DB19 ,  4D024DB21 ,  4D024DB24 ,  4D037AA03 ,  4D037AB01 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037CA02 ,  4D037CA03 ,  4D037CA08 ,  4D037CA12 ,  4D037CA15 ,  4D038AA02 ,  4D038AB26 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB03 ,  4D038BB06 ,  4D038BB07 ,  4D038BB08 ,  4D038BB16 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4D050AA02 ,  4D050AA04 ,  4D050AA05 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA03 ,  4D050CA06 ,  4D050CA07 ,  4D050CA08 ,  4D050CA09 ,  4D050CA13 ,  4D050CA15 ,  4D050CA16 ,  4G069AA01 ,  4G069AA03 ,  4G069BA23A ,  4G069BA24B ,  4G069BC31B ,  4G069BC66B ,  4G069BC72A ,  4G069CA01 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069DA06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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