微細パターン描画材料、それを用いた描画方法及び微細パターン形成方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：阿形明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001172790
Publication number (International publication number)：2002365806
Application date： Jun. 07, 2001
Publication date： Dec. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】大規模の装置を必要とせずに、回折限界よりはるかに小さい微細加工が可能で、急激な熱上昇によるレジスト材料の変形や蒸発を伴うことなく、かつ使用可能な光の範囲を拡大することができ、しかも既存の光リソグラフィー法と組み合わせることができる微細パターン描画方法と微細パターン形成方法とそれに用いる新規な材料を提供する。【解決手段】基板上に、光吸収熱変換層と光及び熱感応性物質層を設けてなる微細パターン描画材料、これを用いて光照射により描画する微細パターン描画方法、及びこの微細パターン描画材料を用いて、光照射によりパターン描画を行ったのち、さらに露光処理及び現像処理を行う微細パターン形成方法である。

Claim (excerpt)：

基板上に、光吸収熱変換層と光及び熱感応性物質層を設けてなる微細パターン描画材料。

IPC (5)：

G03F 7/095 , G03F 7/11 501 , G03F 7/20 505 , G03F 7/38 511 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/095 , G03F 7/11 501 , G03F 7/20 505 , G03F 7/38 511 , H01L 21/30 502 R

F-Term (21)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BB03 , 2H025DA01 , 2H025DA31 , 2H025DA40 , 2H025FA04 , 2H096AA25 , 2H096AA30 , 2H096BA09 , 2H096CA20 , 2H096EA04 , 2H096EA12 , 2H096KA30 , 2H097AA03 , 2H097CA17 , 2H097GB04 , 2H097LA10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

画像記録材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-231181 Applicant：富士写真フイルム株式会社
画像記録材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-231981 Applicant：富士写真フイルム株式会社
印刷版材料及びその製造方法並びに印刷版の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-299896 Applicant：コニカ株式会社

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