陽電子分析顕微鏡および陽電子ビームを用いた測定方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：上島淳一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004151844
Publication number (International publication number)：2005331460
Application date： May. 21, 2004
Publication date： Dec. 02, 2005
Summary：

【課題】測定や分析を行うことが可能な測定対象物を拡張するとともに、測定精度や分析精度を向上させる。【解決手段】測定対象物に陽電子ビームを入射する陽電子ビーム入射手段と、測定対象物に電子ビームを入射する電子ビーム入射手段と、陽電子ビーム入射手段による測定対象物への陽電子ビームの入射および電子ビーム入射手段による測定対象物への電子ビームの入射に伴いそれぞれ発生する2次電子を検出する2次電子検出手段と、2次電子検出手段により検出された2次電子に基づいて測定対象物の2次電子画像を生成して監視するモニター手段と、陽電子ビーム入射手段による測定対象物への陽電子ビームの入射に伴い発生する陽電子衝撃誘起特性X線を検出して陽電子衝撃内殻電子電離による特性X線測定を行う陽電子衝撃誘起特性X線測定手段とを有する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

測定対象物に陽電子ビームを入射する陽電子ビーム入射手段と、前記測定対象物に電子ビームを入射する電子ビーム入射手段と、前記陽電子ビーム入射手段による前記測定対象物への陽電子ビームの入射および前記電子ビーム入射手段による前記測定対象物への電子ビームの入射に伴いそれぞれ発生する2次電子を検出する2次電子検出手段と、前記2次電子検出手段により検出された2次電子に基づいて前記測定対象物の2次電子画像を生成して監視するモニター手段と、前記陽電子ビーム入射手段による前記測定対象物への陽電子ビームの入射に伴い発生する陽電子衝撃誘起特性X線を検出して陽電子衝撃内殻電子電離による特性X線測定を行う陽電子衝撃誘起特性X線測定手段とを有することを特徴とする陽電子分析顕微鏡。

IPC (3)：

G01N23/225 , G21K5/04 , H01J37/28

FI (3)：

G01N23/225 , G21K5/04 M , H01J37/28 B

F-Term (25)：

2G001AA03 , 2G001AA09 , 2G001AA10 , 2G001BA01 , 2G001BA05 , 2G001BA07 , 2G001BA30 , 2G001CA01 , 2G001CA02 , 2G001CA03 , 2G001CA10 , 2G001DA01 , 2G001DA02 , 2G001DA06 , 2G001DA09 , 2G001EA03 , 2G001GA01 , 2G001GA06 , 2G001HA13 , 2G001JA07 , 2G001JA13 , 2G001KA03 , 2G001KA04 , 2G001PA11 , 5C033UU10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

元素分析方法及び元素分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-318185 Applicant：住友重機械工業株式会社
コリメーティングX線分光器およびコリメータ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-055230 Applicant：日本電子株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

“Comparison of K X-Ray Production by Electron and Positron Impact”
“POSITRON MICROANALYSIS WITH HIGH INTENSITY BEAMS”
“POSITRON MICROANALYSIS WITH HIGH INTENSITY BEAMS”

Return to Previous Page