小型カラム電子顕微鏡複合装置及び欠陥観察方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：井上学 , 戸田裕二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007188984
Publication number (International publication number)：2009026620
Application date： Jul. 20, 2007
Publication date： Feb. 05, 2009
Summary：

【課題】任意の傾斜観察方向から傾斜レビュー画像を自動的に撮像することができる走査電子顕微鏡を実現する。【解決手段】本発明は、上記目的を達成するために、荷電粒子ビームを観察欠陥に照射し、観察欠陥の表面から放出される電子を検出して画像を取得するビームチルトが可能な電子顕微鏡と、当該電子顕微鏡カラムに任意の角度から撮像可能とする小型カラム電子顕微鏡を複数配置した構造とする。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

荷電粒子線を試料へ照射し、該試料から放出される二次粒子を検出して画像を取得する荷電粒子線装置において、前記荷電粒子線を前記試料へ照射する主カラムと、該主カラムの照射点へ向けて荷電粒子線を照射する複数の副カラムと、前記主カラムと前記複数の副カラムのうちのいずれかひとつのカラムによって前記試料へ荷電粒子線が照射されるように制御する制御手段とを備え、該副カラムは、前記照射点と前記主カラムの主軸とを実質的に含み前記試料に対して実質的に垂直な平面内に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。

IPC (1)：

H01J 37/28

FI (1)：

H01J37/28 B

F-Term (1)：

5C033UU10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

荷電粒子ビーム装置用カラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-115454 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

Cited by examiner (5)

走査型電子顕微鏡装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-298786 Applicant：キヤノン株式会社
特開平4-051441
回路パターンの検査方法および検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-364073 Applicant：株式会社日立製作所

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