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J-GLOBAL ID:200903003681567075
フッ素含有ポリマー及びエレクトロルミネッセンスデバイス
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石田 敬 (外4名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1999553048
Publication number (International publication number):2002506481
Application date: Apr. 09, 1999
Publication date: Feb. 26, 2002
Summary:
【要約】式(I)の基を10〜90重量%及び式(II)、(III)、及び(IV)の基並びにこれらの混合物を10〜90重量%含むコポリマー(式中、R1は独立に、H、C1-C20ヒドロカルビルもしくはS、N、O、PもしくはSi原子を1個以上含むC1-C20ヒドロカルビル、C4-C16ヒドロカルビルカルボニルオキシ、C4-C16アリール(トリアルキルシロキシ)であり、又は両方のR1はフルオレン環上において9-炭素と、C5-C20環式脂肪族構造又はS、N、もしくはOのヘテロ原子を1個以上含むC4-C20環式脂肪族構造を形成し、R2は独立に、C1-C20ヒドロカルビル、C1-C20ヒドロカルビルオキシ、C1-C20チオエーテル、C1-C20ヒドロカルビルカルボニルオキシ又はシアノであり、R3は独立に、カルボキシル、C1-C20アルキル、C1-C20アルコキシ又は式-CO2R4(式中、R4はC1-C20アルキルである)の基であり、a及びbは独立に0〜3の整数である)。
Claim (excerpt):
下式(I)の基を10〜90重量パーセントと、下式(II)、(III)、及び(IV)より選ばれる基又及びこれらの混合物を10〜90重量パーセント含むコポリマー。 上式中、R1は独立に、H、C1-C20ヒドロカルビルもしくはS、N、O、PもしくはSi原子を1個以上含むC1-C20ヒドロカルビル、C4-C16ヒドロカルビルカルボニルオキシ、C4-C16アリール(トリアルキルシロキシ)であり、又は両方のR1はフルオレン環上において9-炭素と、C5-C20環式脂肪族構造又はS、N、もしくはOのヘテロ原子を1個以上含むC4-C20環式脂肪族構造を形成し、 R2は独立に、C1-C20ヒドロカルビル、C1-C20ヒドロカルビルオキシ、C1-C20チオエーテル、C1-C20ヒドロカルビルカルボニルオキシ又はシアノであり、 R3は独立に、カルボキシル、C1-C20アルキル、C1-C20アルコキシ又は式-CO2R4(式中、R4はC1-C20アルキルである)の基であり、 a及びbは独立に0〜3の整数である。
IPC (3):
C08G 61/12
, C09K 11/06 680
, H05B 33/14
FI (3):
C08G 61/12
, C09K 11/06 680
, H05B 33/14 B
Patent cited by the Patent: