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J-GLOBAL ID：200903003681567075
フッ素含有ポリマー及びエレクトロルミネッセンスデバイス
ウー,エドマンド ピー.
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バーニアス,マーク ティー.
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インバセカラン,マイケル
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ウー,ウェイシ
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Applicant, Patent owner：
ザ ダウ ケミカル カンパニー
About ザ ダウ ケミカル カンパニー
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1999553048
Publication number (International publication number)：2002506481
Application date： Apr. 09, 1999
Publication date： Feb. 26, 2002
Summary：
【要約】式(I)の基を10〜90重量%及び式(II)、(III)、及び(IV)の基並びにこれらの混合物を10〜90重量%含むコポリマー(式中、R1 は独立に、H、C1 -C20 ヒドロカルビルもしくはS、N、O、PもしくはSi原子を1個以上含むC1 -C20 ヒドロカルビル、C4 -C16 ヒドロカルビルカルボニルオキシ、C4 -C16 アリール(トリアルキルシロキシ)であり、又は両方のR1 はフルオレン環上において9-炭素と、C5 -C20 環式脂肪族構造又はS、N、もしくはOのヘテロ原子を1個以上含むC4 -C20 環式脂肪族構造を形成し、R2 は独立に、C1 -C20 ヒドロカルビル、C1 -C20 ヒドロカルビルオキシ、C1 -C20 チオエーテル、C1 -C20 ヒドロカルビルカルボニルオキシ又はシアノであり、R3 は独立に、カルボキシル、C1 -C20 アルキル、C1 -C20 アルコキシ又は式-CO2 R4 (式中、R4 はC1 -C20 アルキルである)の基であり、a及びbは独立に0〜3の整数である)。
Claim (excerpt)：
下式(I)の基を10〜90重量パーセントと、下式(II)、(III)、及び(IV)より選ばれる基又及びこれらの混合物を10〜90重量パーセント含むコポリマー。 上式中、R1 は独立に、H、C1 -C20 ヒドロカルビルもしくはS、N、O、PもしくはSi原子を1個以上含むC1 -C20 ヒドロカルビル、C4 -C16 ヒドロカルビルカルボニルオキシ、C4 -C16 アリール(トリアルキルシロキシ)であり、又は両方のR1 はフルオレン環上において9-炭素と、C5 -C20 環式脂肪族構造又はS、N、もしくはOのヘテロ原子を1個以上含むC4 -C20 環式脂肪族構造を形成し、 R2 は独立に、C1 -C20 ヒドロカルビル、C1 -C20 ヒドロカルビルオキシ、C1 20 チオエーテル、C1 -C20 ヒドロカルビルカルボニルオキシ又はシアノであり、 R3 は独立に、カルボキシル、C1 -C20 アルキル、C1 -C20 アルコキシ又は式-CO2 R4 (式中、R4 はC1 -C20 アルキルである)の基であり、 a及びbは独立に0〜3の整数である。
IPC (3)：
FI (3)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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エレクトロルミネッセンス素子
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-537271 Applicant：ケンブリッジディスプレイテクノロジーリミテッド -
半導体ポリマー電解効果トランジスタ
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-594166 Applicant：ザダウケミカルカンパニー -
2,7-アリール-9-置換フルオレン及び9-置換フルオレンオリゴマー及びポリマー
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平9-507765 Applicant：ザダウケミカルカンパニー
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