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J-GLOBAL ID:200903003794723880

排ガス処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中林 幹雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997310738
Publication number (International publication number):1999137945
Application date: Nov. 12, 1997
Publication date: May. 25, 1999
Summary:
【要約】【課題】 反応塔の断続運転によって吸着材を更新して排ガスの漏洩を防止するとともに、各機器及び装置全体の高さを低く抑える。【解決手段】 反応塔1の排出口と排出コンベア5との間に、定量排出機2、自動開閉弁A、密閉室3、定量排出機4及び自動開閉弁Bを設けて第1の密閉系を形成するとともに、供給コンベア9と反応塔1の供給口との間に、自動開閉弁A、密閉室10、自動開閉弁B及びホッパー11を設けて第2の密閉系を形成する。各密閉系に各密閉系内を乾燥雰囲気とするためのガスの供給口及び排出口を連結する。反応塔を断続運転して吸着材を断続的に更新し、これに同調させて第1の密閉系又は第2の密閉系の2つの自動開閉弁A、Bを交互に作動させることにより、排ガスが流出することなく反応塔から吸着材を排出又は供給することができる。
Claim (excerpt):
粒状の吸着材を充填した移動層式の反応塔と、該反応塔の塔底から吸着材を排出するための排出コンベアと、反応塔の塔頂に吸着材を供給するための供給コンベアとを備えた排ガス処理装置において、前記反応塔の排出口の下流側に2つの自動開閉弁により形成される第1の密閉系を設け、反応塔の供給口の上流側に2つの自動開閉弁により形成される第2の密閉系を設け、各密閉系を乾燥雰囲気とするためのガスの供給口を設け、かつ、移動層における吸着材を断続的に流すように構成したことを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (3):
B01D 53/08 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/81
FI (2):
B01D 53/08 ,  B01D 53/34 A
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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