洗浄装置及びエッチング装置並びに洗浄方法及びエッチング方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：京本直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000140464
Publication number (International publication number)：2001314824
Application date： May. 12, 2000
Publication date： Nov. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】スプレー処理の前にシャワー処理を行う洗浄装置もしくはエッチング装置において、進行する被処理基板の先頭部分と末端部分とのシャワー処理差を抑制する。【解決手段】シャワー処理室2内に可動シャワーノズル1を設け、スプレー処理室4内にスプレーノズル3を設け、入り口から入室された被処理基板30が搬送手段5によりシャワー処理室2をスプレー処理室4に向かって進行する洗浄装置もしくはエッチング装置において、可動シャワーノズル1は被処理基板30の進行方向30Aとは逆の方向に駆動軸7を中心に回転する。

Claim (excerpt)：

シャワー処理室内にシャワーノズルを設け、スプレー処理室内にスプレーノズルを設け、入り口から入室された被処理基板が搬送手段により前記シャワー処理室を前記スプレー処理室に向かって進行する洗浄装置において、前記シャワーノズルは前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転可能であることを特徴とする洗浄装置。

IPC (2)：

B08B 3/02 , B08B 3/04

FI (2)：

B08B 3/02 C , B08B 3/04 Z

F-Term (8)：

3B201AA02 , 3B201AB16 , 3B201BB24 , 3B201BB33 , 3B201BB43 , 3B201BB93 , 3B201CB01 , 3B201CC12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

カラーフィルタ製造方法およびTFT回路製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-048776 Applicant：東レ株式会社
スプレーエッチング方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-357833 Applicant：鈴木建吾

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