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J-GLOBAL ID：200903003950002837

3次元周期構造体及び2次元周期構造体並びにそれらの作製方法

Inventor： 玉村 敏昭 ,  納富 雅也 ,  川上 彰二郎 ,  佐藤 尚 ,  大寺 康夫 ,  川嶋 貴之
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社 ,  川上 彰二郎
Agent (1)： 谷 義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999060838
Publication number (International publication number)：2000258645
Application date： Mar. 08, 1999
Publication date： Sep. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】 フォトニックバンドギャップ効果を増大できるように図った3次元周期構造体および作製方法の提供。【解決手段】 屈折率の異なる複数種類の物質301、302が厚さ方向に周期的に積層された3次元周期構造体であって、厚さ方向の1周期内でそれぞれの物質が2次元の周期的凹凸を持つ膜状または2次元周期的な網状の形をなし、それぞれの物質からなる領域の面内の厚さが面内で変調されている。各物質301、302は上面、下面が2次元的凹凸周期構造を有し、厚さ方向の1周期内で、複数の方向からある物質の原料物質を入射させることで、その物質の上面の凹凸は下面の凹凸よりも強調され、別のある物質は再付着効果を持つデポジションまたはエッチングにより上面の凹凸は下面の凹凸よりも弱められる。これら工程によりそれぞれの物質からなる領域の厚さが面内で変調が与えられ、フォトニックバンドギャップ効果が大きくなる。

Claim (excerpt)：

屈折率の異なる複数種類の物質が厚さ方向に周期的に積層された3次元周期構造体において、厚さ方向の1周期内でそれぞれの物質は2次元の周期的凹凸を持つ膜状または2次元周期的な網状の形をなし、それぞれの物質からなる領域の面内の厚さが、面内で変調されていることを特徴とする3次元周期構造体。

IPC (4)：

G02B 6/12 ,  G02B 5/30 ,  G02B 6/13 ,  G02F 1/01

FI (4)：

G02B 6/12 N ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/01 F ,  G02B 6/12 M

F-Term (16)：

2H047KA03 ,  2H047KB08 ,  2H047PA04 ,  2H047PA05 ,  2H047PA24 ,  2H047QA02 ,  2H047QA04 ,  2H047RA08 ,  2H047TA05 ,  2H047TA11 ,  2H049BA01 ,  2H049BA45 ,  2H049BC01 ,  2H049BC25 ,  2H079CA05 ,  2H079DA16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 3次元周期構造体及びその作製方法並びに膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-040736   Applicant：川上彰二郎
• 量子半導体装置およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-212811   Applicant：富士通株式会社
• 偏光子とその作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-257426   Applicant：川上彰二郎
• 偏光子とその製造方法及びこれを用いた導波型光デバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-302826   Applicant：日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, 川上彰二郎
• 偏光子及びこれを用いた導波型光デバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-347407   Applicant：日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, 川上彰二郎