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J-GLOBAL ID：200903004032772405

酸化物超電導線材

Inventor： 室賀 岳海 ,  山田 穣 ,  荒木 猛司 ,  平林 泉 ,  和泉 輝郎 ,  塩原 融 ,  飯島 康裕
Applicant, Patent owner： 財団法人国際超電導産業技術研究センター ,  日立電線株式会社 ,  株式会社東芝 ,  株式会社フジクラ
Agent (4)： 酒井 正己 ,  加々美 紀雄 ,  小松 秀岳 ,  小松 純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002229209
Publication number (International publication number)：2004071359
Application date： Aug. 06, 2002
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：

【課題】低コストでかつ高い臨界電流密度を有する超電導線材を提供すること。【解決手段】金属基板、該金属基板上にイオンビームアシスト法(IBAD法)により蒸着した中間層、該中間層上にPLD法等により蒸着したCeO2からなるキャップ層及び該キャップ層上に形成した酸化物超電導体膜からなる酸化物超電導線材において、該中間層の厚さが2000nm以下とし、かつ、該キャップ層の厚さを50nm以上とする。上記のようにIBAD法で製造する中間膜の厚さを薄くすると共にキャップ層を厚くすることにより、IBAD法による成膜時間を短縮し、得られる超電導膜の配向性を良好なものとすることができる。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

金属基板、該金属基板上にイオンビームアシスト法(IBAD法)により蒸着した中間層、該中間層上に蒸着したCeO2のキャップ層及び該キャップ層上に形成した酸化物超電導体膜からなる酸化物超電導線材において、該中間層の厚さが2000nm以下であり、かつ、該キャップ層の厚さが50nm以上であることを特徴とする酸化物超電導線材。

IPC (5)：

H01B12/06 ,  H01B13/00 ,  H01F6/06 ,  H01L39/02 ,  H01L39/24

FI (5)：

H01B12/06 ,  H01B13/00 565D ,  H01L39/02 D ,  H01L39/24 D ,  H01F5/08 B

F-Term (17)：

4M113BA01 ,  4M113BA04 ,  4M113BA21 ,  4M113CA31 ,  4M113CA34 ,  4M113CA44 ,  4M114AA29 ,  4M114DB62 ,  5G321AA01 ,  5G321BA01 ,  5G321CA05 ,  5G321CA21 ,  5G321CA24 ,  5G321DB37 ,  5G321DB39 ,  5G321DB41 ,  5G321DB42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 酸化物超電導導体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-237477   Applicant：株式会社フジクラ
• テープ状酸化物超電導体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-145599   Applicant：財団法人国際超電導産業技術研究センター, 昭和電線電纜株式会社, 株式会社フジクラ, 財団法人鉄道総合技術研究所, 株式会社東芝
• 厚膜テープ状酸化物超電導体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-089186   Applicant：財団法人国際超電導産業技術研究センター, 昭和電線電纜株式会社, 株式会社フジクラ, 財団法人鉄道総合技術研究所