Pat
J-GLOBAL ID:200903004304358964
三次元計測装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
川口 光男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002359848
Publication number (International publication number):2004191200
Application date: Dec. 11, 2002
Publication date: Jul. 08, 2004
Summary:
【課題】計測対象物の三次元計測を行うに際し、照射ポイントの相違による不具合を払拭し、より正確に三次元計測を行うことを可能とする。【解決手段】三次元計測装置1は、照射手段3と、CCDカメラ4と、画像処理手段5とを備える。照射手段3は、プリント基板Kの表面に対し斜め上方から所定の光パターンを照射する。CCDカメラ4は、プリント基板Kの真上に配置され、プリント基板K上の前記光パターンの照射された部分を撮像する。画像処理手段5では、所定の三次元計測方法によって、撮像された画像データに基づき、クリームハンダの三次元計測が行われる。照射手段3は、ハロゲンランプ11、コンデンサレンズ12、縞状板13、投影レンズ14を具備する。ハロゲンランプ11と縞状板13との間に、光強度補正板15が設けられ、これにより、光パターンの光強度の均質化が図られている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
計測対象物に対し、縞状の光強度分布を有する光パターンを照射可能な照射手段と、
前記光パターンの照射角度とは異なる角度位置に設置され、前記光パターンの照射された計測対象物を撮像可能な撮像手段と、
少なくとも前記撮像手段にて撮像された画像データに基づき、前記計測対象物の三次元計測を行う画像処理手段とを備えた三次元計測装置であって、
前記照射手段からの光パターンの照射ポイントと、前記照射ポイントからの光が前記撮像手段にて撮像される撮像ポイントとを結ぶ光路に関し、各照射ポイント毎に対応する光路長の相違に起因して、前記撮像手段にて撮像される画像データに影響が及ぶのを抑制するべく、前記光パターンを調整するよう構成したことを特徴とする三次元計測装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (18):
2F065AA53
, 2F065CC01
, 2F065CC26
, 2F065FF04
, 2F065GG02
, 2F065GG07
, 2F065GG13
, 2F065GG17
, 2F065HH05
, 2F065HH12
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065LL24
, 2F065LL28
, 2F065NN03
, 2F065UU01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
パターン投影装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-096068
Applicant:新日本製鐵株式会社
-
三次元計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-171729
Applicant:シーケーディ株式会社
-
特開昭63-231203
-
特開平4-364446
-
特開平4-301548
-
非接触変位計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-062303
Applicant:株式会社島津製作所
-
特開昭63-153411
Show all
Return to Previous Page