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J-GLOBAL ID:200903004365866865

光触媒を用いた水素製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 阿形 明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003302157
Publication number (International publication number):2005067973
Application date: Aug. 26, 2003
Publication date: Mar. 17, 2005
Summary:
【課題】 原料として、通常、埋立てや廃棄処分に付されている有機質汚泥を用い、光触媒の存在下、特に電子供与性成分を使用することなく、しかも可視光の照射により効率よく水素を製造しうる方法を提供する。【解決手段】 可溶化処理した含水有機質汚泥に、金属硫化物光触媒の存在下、光照射することにより水素を製造する。この可溶化処理を、非酸化雰囲気中、加圧下、熱水で処理することによって行うこと、含水有機質汚泥が下水汚泥又は消化汚泥であること、金属硫化物光触媒が硫化カドミウム及び硫化インジウムの中から選ばれた少なくとも1種であること、が好ましい。
Claim (excerpt):
可溶化処理した含水有機質汚泥に、金属硫化物光触媒の存在下、光照射することを特徴とする水素の製造方法。
IPC (5):
C01B3/04 ,  B01J27/04 ,  B01J35/02 ,  C02F11/00 ,  C02F11/08
FI (5):
C01B3/04 A ,  B01J27/04 M ,  B01J35/02 J ,  C02F11/00 Z ,  C02F11/08
F-Term (20):
4D059AA05 ,  4D059AA23 ,  4D059BC01 ,  4D059BK12 ,  4D059BK23 ,  4D059CC03 ,  4D059DA70 ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BA48A ,  4G069BB09A ,  4G069BB09B ,  4G069BC18A ,  4G069BC18B ,  4G069BC36A ,  4G069BC36B ,  4G069CB81 ,  4G069CC33 ,  4G069EB19 ,  4G069FB08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (13)
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