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J-GLOBAL ID：200903004376773532

化学増幅型レジスト製造用重合体及びこれを含有するレジスト組成物

Inventor： ソー ドン-チュル ,  パク スン-イ ,  パク ジョ-ヒョン ,  キム ソン-ジュ
Applicant, Patent owner： コーリア クンホ ペトロケミカル カンパニー・リミテッド
Agent (1)： 児玉 喜博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999202427
Publication number (International publication number)：2000103819
Application date： Jul. 16, 1999
Publication date： Apr. 11, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 基板接着性、ドライエッチング耐性、解像性、耐熱性などに優れ、基板の種類にかかわらず優秀なレジストパターンのための共重合体及びこれを含有するレジスト組成物の提供。【解決手段】 一般式(I)で表示される共重合体。Xは次の一般式(II)、(III)、(IV)で表示される単量体を使用したものから選択されたものであり、R1〜R4は炭素原子が1〜10である直鎖又は側鎖アルキル基、環状又は多重環状アルキル基を示し、それぞれ独立的である。l+m+n+oは1であり、oは0.4〜0.6の値を有する。l、m、nはそれぞれ0.5以下である。

Claim (excerpt)：

次の一般式(I)で表示される共重合体。【化1】前記式において、Xは次の一般式(II)、(III)、(IV)で表示される単量体を使用したものから選択されたものであり、【化2】【化3】【化4】R1はアセチル基、t-ブチルオキシカルボニル基、シクロヘキサンカルボニル基、アダマンタンカルボニル基、バイシクロ[2,2,1]ヘプタンメチルカルボニル基など、炭素原子が1〜10である直鎖又は側鎖アルキル基、環状又は多重環状アルキル基、アルキルカルボニル基、側鎖アルキルカルボニル基、環状又は多重環状アルキルカルボニル基を示す。R2、R3、R4はメチル基、エチル基、t-ブチル基、iso-プロピル基、アダマンチル基、バイシクロ[2,2,1]ヘプタンメチル基など、炭素原子が1〜10である直鎖又は側鎖アルキル基、環状又は多重環状アルキル基を示し、それぞれ独立的である。l+m+n+oは1であり、oは0.4〜0.6の値を有する。1、m、nはそれぞれ0.5以下である。

IPC (5)：

C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  C08G 63/54 ,  C08L 35/02 ,  G03F 7/039 601

FI (5)：

C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  C08G 63/54 ,  C08L 35/02 ,  G03F 7/039 601

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 化学増幅型のレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-094644   Applicant：三星電子株式会社
• 陽性フォトレジスト製造用共重合体およびこれを含有する化学増幅型陽性フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-096482   Applicant：クンホセオキュホアハクジュシクヘサ