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J-GLOBAL ID：200903004482705791

光記録方法および光記録装置

Inventor：
河野 克典

About 河野 克典

, 
三鍋 治郎

About 三鍋 治郎


Applicant, Patent owner：
富士ゼロックス株式会社

About 富士ゼロックス株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000103515
Publication number (International publication number)：2001291238
Application date： Apr. 05, 2000
Publication date： Oct. 19, 2001
Summary：
【要約】【課題】 記録時に高い複屈折が得られ、光記録層の層厚を薄くすることが可能であり、また読取時のエラーが少ない光記録方法、この方法に用いる光記録媒体および光記録装置を提供すること。【解決手段】 光源から出射された記録光の偏光角を制御する工程と、前記記録光を光記録媒体に照射する工程を有し、前記偏光角に対応した方位のλ/4波長板あるいはλ/2波長板を前記光記録媒体に形成する光記録方法において、前記光記録媒体が分子中に光異性化基を有する高分子膜または光異性化分子を含む高分子膜を有し、かつ光記録媒体の高分子膜に記録光を照射する工程に続いて、記録光を遮断し放置する工程が行われ、前記記録光照射工程と放置工程の少なくとも1つの工程において、前記高分子膜の温度が制御されることを特徴とする光記録方法。
Claim (excerpt)：
光源から出射された記録光の偏光角を制御する工程と、前記記録光を光記録媒体に照射する工程を有し、前記偏光角に対応した方位の波長板を前記光記録媒体に形成する光記録方法において、前記光記録媒体が分子中に光異性化基を有する高分子膜または光異性化分子を含む高分子膜を有し、かつ光記録媒体の高分子膜に記録光を照射する工程に続いて、記録光を遮断し放置する工程が行われ、前記記録光照射工程と放置工程の2つの工程の少なくとも1つの工程において、前記高分子膜の温度が制御されることを特徴とする光記録方法。
IPC (6)：
G11B 7/0045 ,  G03C 1/73 503 ,  G11B 7/24 516 ,  G11B 7/24 522 ,  G11B 7/24 ,  G11B 7/26 531
FI (6)：
G11B 7/0045 Z ,  G03C 1/73 503 ,  G11B 7/24 516 ,  G11B 7/24 522 A ,  G11B 7/24 522 L ,  G11B 7/26 531
F-Term (22)：
2H123AA00 ,  2H123AA04 ,  2H123AA30 ,  5D029JA04 ,  5D029JB11 ,  5D029JB18 ,  5D029JB35 ,  5D029JC07 ,  5D029VA01 ,  5D029VA03 ,  5D090AA01 ,  5D090BB04 ,  5D090BB17 ,  5D090BB18 ,  5D090CC01 ,  5D090CC04 ,  5D090DD01 ,  5D090FF12 ,  5D121AA01 ,  5D121EE22 ,  5D121EE23 ,  5D121GG18
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (16)
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Cited by examiner (7)
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