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J-GLOBAL ID：200903086025106021

高分子膜に光学異方性を付与する方法、そのための装置および光学異方性媒体

Inventor：
三鍋 治郎

About 三鍋 治郎

, 
河野 克典

About 河野 克典

, 
西片 康成

About 西片 康成


Applicant, Patent owner：
富士ゼロックス株式会社

About 富士ゼロックス株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000012140
Publication number (International publication number)：2001201634
Application date： Jan. 20, 2000
Publication date： Jul. 27, 2001
Summary：
【要約】【課題】 高い光学異方性を有する高分子膜を簡明な方法で提供すること、そのための装置を提供すること、また前記方法で得られる高い光学異方性を有する高分子膜を備えた光学異方性媒体を提供すること。【解決手段】 光異性化基あるいは光異性化分子が、光によって異性化した後熱戻り反応によって異性化しうるT(thermal)型フォトクロミック性を有する高分子膜に偏光を照射することにより前記高分子膜に光学異方性を付与する方法において、前記方法は、前記高分子膜に偏光を照射する工程と、偏光を遮断し放置する工程の連続する2つの工程を有し、前記2つの工程の少なくとも1つの工程において、前記高分子膜に対し、熱戻り反応によって誘起される前記光異性化基あるいは光異性化分子の配向を増強するための温度制御を行うことを特徴とする高分子膜に光学異方性を付与する方法。
Claim (excerpt)：
分子中に光異性化基を含む高分子膜または光異性化分子を含む高分子膜であって、該光異性化基あるいは光異性化分子が、光によって異性化した後熱戻り反応によって異性化しうるT(thermal)型フォトクロミック性を有する高分子膜に偏光を照射することにより前記高分子膜に光学異方性を付与する方法において、前記方法は、前記高分子膜に偏光を照射する工程と、偏光を遮断し放置する工程の連続する2つの工程を有し、前記2つの工程の少なくとも1つの工程において、前記高分子膜に対し、熱戻り反応によって誘起される前記光異性化基あるいは光異性化分子の配向を増強するための温度制御を行うことを特徴とする高分子膜に光学異方性を付与する方法。
IPC (7)：
G02B 5/30 ,  C08G 63/193 ,  C08J 7/00 CFD ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 302 ,  G03H 1/04 ,  C08L 67:00
FI (7)：
G02B 5/30 ,  C08G 63/193 ,  C08J 7/00 CFD ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 302 ,  G03H 1/04 ,  C08L 67:00
F-Term (25)：
2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BC01 ,  2H049BC05 ,  2H049BC09 ,  2K008AA04 ,  2K008BB01 ,  2K008BB04 ,  2K008DD12 ,  2K008EE01 ,  4F073AA14 ,  4F073BA23 ,  4F073BB01 ,  4F073CA53 ,  4F073GA01 ,  4J029AA01 ,  4J029AB01 ,  4J029AC01 ,  4J029AD09 ,  4J029AE03 ,  4J029AE04 ,  4J029BE05A ,  4J029BF14A ,  4J029CB05B ,  4J029KH01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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