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J-GLOBAL ID:200903004620664791
成膜方法及び処理装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
浅井 章弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009177232
Publication number (International publication number):2009260377
Application date: Jul. 30, 2009
Publication date: Nov. 05, 2009
Summary:
【課題】クリーニング処理開始前の被処理体の処理枚数に関係なく、ジャストエッチの時点を自動的に確実に把握することにより、エッチング処理の適正な終点時点を決定することが可能な処理装置を提供する。【解決手段】真空引き可能になされた処理チャンバー16と、所定の処理が施される被処理体Wを載置する載置台20と、処理チャンバーへ必要なガスを供給するガス供給手段40と、途中に真空ポンプが介設されて処理チャンバー内の雰囲気を真空引きする排気系6とを有す処理装置において、排気ガス中に含まれるパーティクル数を計測するために前記排気系に設けられたパーティクル計測手段8と、処理チャンバー内にクリーニングガスを流してクリーニング処理を行う時にパーティクル計測手段の計測値に基づいてクリーニング処理の終点時点を決定するクリーニング終点決定手段14とを備える。【選択図】図1
Claim (excerpt):
真空引き可能になされた処理チャンバーと、
所定の処理が施される被処理体を載置する載置台と、
前記処理チャンバーへ必要なガスを供給するガス供給手段と、
途中に真空ポンプが介設されて前記処理チャンバー内の雰囲気を真空引きする排気系とを有す処理装置において、
排気ガス中に含まれるパーティクル数を計測するために前記排気系に設けられたパーティクル計測手段と、
前記処理チャンバー内にクリーニングガスを流してクリーニング処理を行う時に前記パーティクル計測手段の計測値に基づいて前記クリーニング処理の終点時点を決定するクリーニング終点決定手段とを備えたことを特徴とする処理装置。
IPC (2):
FI (2):
H01L21/285 C
, C23C16/44 J
F-Term (34):
4K030AA03
, 4K030AA04
, 4K030AA06
, 4K030AA13
, 4K030AA16
, 4K030AA17
, 4K030AA18
, 4K030BA18
, 4K030BA20
, 4K030BA38
, 4K030BB13
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030DA06
, 4K030FA03
, 4K030FA10
, 4K030KA02
, 4K030KA39
, 4K030KA41
, 4K030LA15
, 4M104AA01
, 4M104BB04
, 4M104BB14
, 4M104BB25
, 4M104CC01
, 4M104DD06
, 4M104DD44
, 4M104DD45
, 4M104DD86
, 4M104DD89
, 4M104FF28
, 4M104FF29
, 4M104HH08
, 4M104HH15
Patent cited by the Patent: