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J-GLOBAL ID：200903004643296218

ウエハー熱処理装置

Inventor： 平本 雅信 ,  宗友 宣浩
Applicant, Patent owner： 日本ピラー工業株式会社
Agent (1)： 永田 良昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996297243
Publication number (International publication number)：1998125690
Application date： Oct. 17, 1996
Publication date： May. 15, 1998
Summary：

【要約】【課題】結晶転移の生じる部分が少なく、歩留まりが向上すると共に、ウエハー全体を均一に熱処理することができるウエハー熱処理装置を提供する。【解決手段】熱処理時に付与される熱を保持体に蓄熱して、その保持体に近接されたウエハーの周縁部に熱伝導するので、昇温初期時及び降温初期時に於いて、ウエハーの中央部よりも周縁部の方が急速に加熱及び冷却されるのを抑制でき、均熱性を保つことができる。且つ、ウエハー全体の温度を均等に保ちながら加熱及び冷却して、中央部と周縁部とに温度勾配が生じるのを積極的に防止するので、ウエハー全体を均一に熱処理することができる。

Claim (excerpt)：

支持台により支持されたウエハーを加熱炉内に搬入して均一に熱処理するウエハー熱処理装置であって、上記支持台の上面側に、上記ウエハーの周縁部よりも若干大径となる大きさに形成した保持体を水平に取付けると共に、上記保持体の内周部とウエハーの周縁部との対向周面を、該ウエハーの外周縁部に対して熱伝導される間隔に近接したウエハー熱処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/324 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511

FI (4)：

H01L 21/324 Q ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 熱処理方法及び熱処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-041177   Applicant：富士通株式会社
• サセプタ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-226666   Applicant：東芝セラミックス株式会社
• 熱処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-229695   Applicant：東京エレクトロン相模株式会社