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J-GLOBAL ID：200903004802253282

水の循環濾過方法及び装置

Inventor：
西村 勤

About 西村 勤


Applicant, Patent owner：
西村 勤

About 西村 勤


Agent (1)： 永田 久喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995353499
Publication number (International publication number)：1996229591
Application date： Dec. 31, 1995
Publication date： Sep. 10, 1996
Summary：
【要約】【課題】 浴湯や鑑賞魚等の水槽の水を長期間連続して循環使用する場合において、濾材中で繁殖する大腸菌その他の病原菌の繁殖を抑えるとともに、循環水中の老廃物を確実に除去して常に清浄な状態を保持する。【解決手段】 浴湯や鑑賞魚等の水槽の水を循環濾過するに際し、引き抜いた水を有用細菌胞子含有物とシリカ源、マグネシウム源の層を、更にはゼオライトの層や麦飯石その他の濾材の層に時間をかけて且つ短絡が無いように確実に接触させて通過させて、濾材中に有用細菌を繁殖させる。紫外線照射やオゾン添加は排除する。
Claim (excerpt)：
槽内の水中に含まれる老廃物質を清浄化処理して循環使用をする場合において、引き抜いた水又は吸い込んだ水を有用細菌胞子含有物とシリカ源、マグネシウム源を充填した濾過装置を通過させることを特徴とする水の循環濾過方法。
IPC (11)：
C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504 ,  A47K 3/00 ,  B01D 35/027 ,  C02F 1/28 ,  C02F 3/06 ZAB ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/34 ,  E04H 4/12
FI (12)：
C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 501 B ,  C02F 9/00 503 A ,  C02F 9/00 504 A ,  A47K 3/00 J ,  C02F 1/28 E ,  C02F 3/06 ZAB ,  C02F 3/10 Z ,  C02F 3/34 Z ,  B01D 35/02 J ,  B01D 35/02 C ,  E04H 3/20 B
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 温水循環器
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-212182   Applicant：株式会社ブリヂストン
  • 特開平4-334595
  • 浴槽水の微生物処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平2-411323   Applicant：ライザー工業株式会社
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Cited by examiner (5)
  • 温水循環器
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-212182   Applicant：株式会社ブリヂストン
  • 特開平4-334595
  • 浴槽水の微生物処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平2-411323   Applicant：ライザー工業株式会社
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