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J-GLOBAL ID：200903004827877647

硝化グラニュールの形成方法

Inventor： 常田 聡 ,  平田 彰
Applicant, Patent owner： 学校法人早稲田大学
Agent (1)： 三好 秀和 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002070011
Publication number (International publication number)：2003266095
Application date： Mar. 14, 2002
Publication date： Sep. 24, 2003
Summary：

【要約】【課題】 自己固定化法により、強度、沈降性およびNH4+-N除去速度に優れた硝化グラニュールを形成することを目的とする。【解決手段】 硝化細菌を含む汚泥と、無機性アンモニア含有水溶液とを、上向流好気性条件下、反応槽内にて連続的に接触させることを特徴とする硝化グラニュールの形成方法により課題を解決した。

Claim (excerpt)：

硝化細菌を含む汚泥と、無機性アンモニア含有水溶液とを、上向流好気性条件下、反応槽内にて連続的に接触させることを特徴とする硝化グラニュールの形成方法。

F-Term (3)：

4D040BB07 ,  4D040BB42 ,  4D040BB91

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 廃水処理方法および廃水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-204215   Applicant：丹保憲仁, 清水達雄
• 特開昭53-021861
  
• 小規模浄化槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-281304   Applicant：キリンマシナリー株式会社
• アンモニア性窒素含有水の硝化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-215453   Applicant：栗田工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 上向流好気性流動床による高速硝化技術の開発