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J-GLOBAL ID：200903004954492444

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
佐々木 知也

About 佐々木 知也


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004204239
Publication number (International publication number)：2006030232
Application date： Jul. 12, 2004
Publication date： Feb. 02, 2006
Summary：
【課題】 EBまたはEUV照射下で充分良好な感度、コントラスト、解像力、ラインエッジラフネスを実現できるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 酸の作用により分解して、アルカリ可溶性基を生じるとともに、特定構造を有する脱離基を生じる基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)酸の作用により分解して、アルカリ可溶性基を生じるとともに、下記一般式(A)で表される基を有する脱離基を生じる基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、 (B)活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 ,  C08F 12/14 ,  C08F 20/26 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F7/039 601 ,  C08F12/14 ,  C08F20/26 ,  H01L21/30 502R
F-Term (32)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07R ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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