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J-GLOBAL ID:200903005064668509

露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山口 孝雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995195922
Publication number (International publication number):1997022869
Application date: Jul. 07, 1995
Publication date: Jan. 21, 1997
Summary:
【要約】【目的】 露光領域内における照度の均一性と開口数の均一性とを同時に満たすことのできる露光装置を提供すること。【構成】 コンデンサー光学系の焦点距離をFとし、コンデンサー光学系に対する光線の入射角をθとし、光線がマスクに入射する位置の光軸からの距離をYとしたとき、Y=F sinθの条件を実質的に満足し、感光基板上の照度をほぼ均一にするために、感光基板上で異なる像高に到達する光束に対して異なる透過率分布を有する照度分布補正手段が設けられている。
Claim (excerpt):
照明光を供給するための光源手段と、該光源手段からの光束に基づいて複数の光源像を形成するための多光源像形成手段と、前記複数の光源像からの光束を集光して所定のパターンが形成されたマスクを重畳的に照明するためのコンデンサー光学系とを備え、前記マスクのパターン像を感光基板上に形成する露光装置において、前記コンデンサー光学系の焦点距離をFとし、前記コンデンサー光学系に対する光線の入射角をθとし、前記光線が前記マスクに入射する位置の前記光軸からの距離をYとしたとき、Y=F sinθの条件を実質的に満足し、前記感光基板上の照度をほぼ均一にするために、前記感光基板と光学的にほぼ共役な位置には、位置により透過率が連続的に異なる透過率分布を有する照度分布補正手段が設けられていることを特徴とする露光装置。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (5):
H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 515 A ,  H01L 21/30 527
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 露光用照明装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-046140   Applicant:株式会社ニコン
  • 照明装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-079678   Applicant:株式会社トプコン, 株式会社東芝
  • 特開平2-170152
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