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J-GLOBAL ID:200903005085943593

有機EL素子およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石井 陽一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999234024
Publication number (International publication number):2000133447
Application date: Aug. 20, 1999
Publication date: May. 12, 2000
Summary:
【要約】【課題】 有機層にダメージを与えることなく製造でき、ダークスポットの発生を抑え、初期駆動電圧、駆動開始電圧の低い、高効率、長寿命の有機EL素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基板と、この基板上にホール注入電極と電子注入電極とを有し、これらの電極間に少なくとも発光機能に関与する有機層を有する有機EL素子であって、前記電子注入電極は、金属または少なくとも金属の酸化物あるいはハロゲン化物を有し、前記有機層と電子注入電極との間にポルフィリン系化合物またはナフタセン系化合物を含有する緩衝層を有する構成の有機EL素子とした。
Claim (excerpt):
基板と、この基板上にホール注入電極と電子注入電極とを有し、これらの電極間に少なくとも発光機能に関与する有機層を有する有機EL素子であって、前記電子注入電極は、金属または少なくとも金属の酸化物あるいはハロゲン化物を有し、前記有機層と電子注入電極との間にポルフィリン系化合物またはナフタセン系化合物を含有する緩衝層を有する有機EL素子。
IPC (3):
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/26
FI (3):
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/26 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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