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J-GLOBAL ID:200903005286869960
コントラスト比を改良するため小さくされたマイクロミラーのミラー・ギャップ
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
浅村 皓 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998334682
Publication number (International publication number):1999258528
Application date: Nov. 25, 1998
Publication date: Sep. 24, 1999
Summary:
【要約】【課題】 画像品質の向上。【解決手段】 半導体基板708上につくられるマイクロミラー・アレイ。マイクロミラー・アレイ内のマイクロミラーは、内部アクティブ領域704のミラーに当たる光を選択的に変調する内部アクティブ領域704と、内部アクティブ領域704によって生成される画像の周りの暗いボーダー部をつくる外部ボーダー領域702に論理的に区分される。隣接するミラーは、各ミラー間のギャップによって回転可能となる。アレイの内部アクティブ領域704のミラー間のギャップ712は、外部ボーダー領域702の少なくとも幾つかのミラー間のギャップ710より大きい。外部領域702の一層小さなギャップ710は、外部領域702のミラーを単一方向への回転に制限することによって可能となる。
Claim (excerpt):
マイクロミラー・アレイであって、基板の第1の表面上につくられる電気的部品を有する基板と、マイクロメカニカル光変調素子のアレイとを含み、マイクロメカニカル光変調素子はそれぞれ、アドレス指定回路、及び前記基板によって支持され基板から離れて配置されるミラーを含み、前記各ミラーは隣接するミラーからギャップによって離されており、前記アレイは内部光変調領域、及び前記内部光変調領域を囲む外部ボーダー領域を形成し、前記ギャップは、前記内部光変調領域のミラー間よりも、前記外部ボーダー領域の少なくとも幾つかのミラー間の方が小さいマイクロミラー・アレイ。
IPC (2):
FI (2):
G02B 26/08 E
, H04N 5/74 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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水平解像度を高める方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-282123
Applicant:テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
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光変調表示素子およびそれを用いた投射型表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-300991
Applicant:株式会社日立製作所, 日立デバイスエンジニアリング株式会社
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マイクロミラー装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-041265
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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投写型画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-267914
Applicant:松下電器産業株式会社
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