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J-GLOBAL ID:200903005336930232
嫌気槽の槽内液攪拌システム
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
綿貫 達雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001181972
Publication number (International publication number):2003001084
Application date: Jun. 15, 2001
Publication date: Jan. 07, 2003
Summary:
【要約】【課題】微生物やその固定化担体を損傷することがなく、極めて簡便なメンテナンスを可能とする、嫌気槽内の微生物を用いた液体の撹拌システム。【解決手段】 嫌気槽1の嫌気性微生物を培養した槽内液11中に底部近くに配置した散気装置21から散気されたガスが浮上する液面には、下方開口を液内に浸漬した中空容器からなるガス捕集チャンバ22が設けられている。ガス捕集チャンバ22と前記散気装置21とは、槽外でガス循環ライン23a、ブロア装置24、23bによって連結されている。前記ガス捕集チャンバ22に捕集されたガスは、ガス循環ライン、ブロア装置を通じて、散気装置21に返送され、再度散気されて、循環使用され、かつ槽内液を撹拌する。
Claim (excerpt):
槽内液に散気され、液面上に浮上したガスを捕集して、これを再び散気ガスとして返送し、散気ガスを循環させるとともに、槽内液に散気されたガスの上昇流によって槽内液を撹拌することを特徴とする嫌気槽の槽内液攪拌システム。
IPC (5):
B01F 13/02
, B01D 53/38
, B01D 53/74
, B01D 53/81
, C02F 3/28
FI (5):
B01F 13/02 A
, C02F 3/28 Z
, B01D 53/34 116 A
, B01D 53/34 116 F
, B01D 53/34 116 Z
F-Term (13):
4D002AA01
, 4D002AA03
, 4D002AA04
, 4D002AA06
, 4D002AA12
, 4D002AA13
, 4D002AB02
, 4D002AC10
, 4D002BA04
, 4D002BA05
, 4D002BA09
, 4D040AA54
, 4G036AC05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
廃水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-163615
Applicant:株式会社東芝
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特開昭62-282693
-
特公昭47-009194
-
嫌気性水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-003729
Applicant:株式会社東芝
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