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J-GLOBAL ID：200903005527380623

スピンバルブ膜の製造方法

Inventor： 天野 一 ,  竹堤 宏明 ,  佐々木 徹郎 ,  佐藤 順一
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Agent (1)： 阿部 美次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000092546
Publication number (International publication number)：2001283413
Application date： Mar. 29, 2000
Publication date： Oct. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】薄膜磁気ヘッドの読み取り素子として用いた場合に、高い読み取り信号出力を得ることができるスピンバルブ膜の製造方法を提供する。【解決手段】スピンバルブ膜1を成膜する工程において、前後する2つの成膜プロセスのうち、先行成膜プロセスを終了した後、後続成膜プロセスを実行する前、成膜プロセスを、少なくとも1回、所定時間中断する工程、プラズマ中に曝す工程、低真空度の別真空チャンバ内に入れる工程、高H2O濃度またはO2濃度の真空チャンバ内に入れる工程、H2OまたはO2が1ppm以上含まれるガスにより表面処理を行う工程、または、プロセスガスを流しながら、所定時間放置する工程を含む。

Claim (excerpt)：

スピンバルブ膜の製造方法であって、前記スピンバルブ膜は、下地膜、第1の強磁性膜、導電膜及び第2の強磁性膜を含む積層膜であり、前記スピンバルブ膜を成膜する工程は、前後する2つの成膜プロセスのうち、先行成膜プロセスを終了した後、後続成膜プロセスを実行する前、成膜プロセスを、少なくとも1回、所定時間中断する工程を含むスピンバルブ膜の製造方法。

IPC (5)：

G11B 5/39 ,  H01F 10/32 ,  H01F 41/18 ,  H01L 43/08 ,  H01L 43/12

FI (5)：

G11B 5/39 ,  H01F 10/32 ,  H01F 41/18 ,  H01L 43/08 Z ,  H01L 43/12

F-Term (13)：

5D034BA05 ,  5D034CA08 ,  5D034DA07 ,  5E049AA04 ,  5E049AA07 ,  5E049AA09 ,  5E049AA10 ,  5E049AC05 ,  5E049BA12 ,  5E049BA16 ,  5E049CB02 ,  5E049FC10 ,  5E049GC01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 磁気抵抗効果素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-087190   Applicant：日本ビクター株式会社
• 磁気抵抗効果素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-072116   Applicant：富士通株式会社