レーザー脱離イオン化質量分析用サンプルプレート

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人アイテック国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006136311
Publication number (International publication number)：2007309668
Application date： May. 16, 2006
Publication date： Nov. 29, 2007
Summary：

【課題】LDIやMALDIなどにおけるイオン化に適し、繰り返し使用可能なレーザー脱離イオン化質量分析用サンプルプレートを提供する。【解決手段】レーザー脱離イオン化質量分析用サンプルプレートを、分析対象の保持面として面粗さ(Ra)が2.0μm以下である、熱分解炭素層を備えるようにする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

レーザー脱離イオン化質量分析用サンプルプレートであって、分析対象の保持面として面粗さ(Ra)が2.0μm以下である、熱分解炭素層を備える、サンプルプレート。

IPC (1)：

G01N 27/62

FI (2)：

G01N27/62 V , G01N27/62 F

F-Term (16)：

2G041CA01 , 2G041DA03 , 2G041DA04 , 2G041EA04 , 2G041FA10 , 2G041FA12 , 2G041GA02 , 2G041GA03 , 2G041GA05 , 2G041GA06 , 2G041GA08 , 2G041GA09 , 2G041GA16 , 2G041HA01 , 2G041JA02 , 2G041JA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

レーザー脱離イオン化質量分析法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-313480 Applicant：株式会社島津製作所
特許公報3548769号

Cited by examiner (10)

ターゲット支持体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-277671 Applicant：アジレント・テクノロジーズ・インク
特表平6-508472
特開昭62-043562

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