Pat
J-GLOBAL ID:200903062320046913

質量分析を使用する指紋分析

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (9): 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男 ,  河村 英文 ,  吉田 尚美 ,  中村 綾子 ,  岡本 正之 ,  深川 英里 ,  森本 聡二
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2008525650
Publication number (International publication number):2009505055
Application date: Aug. 09, 2006
Publication date: Feb. 05, 2009
Summary:
本出願は、質量分析法を使用して指紋上または内の残留物の存在を判定するための方法に関する。前記質量分析法は、MALDI-TOF-MSおよびSALDI-TOF-MSから選択することができる。マトリックス支援レーザー脱離においてマトリックスとしての役割を果し、指紋の視覚化に役立つ粒子懸濁液を指紋に塗布する。適するマトリックスの例は、疎水性シリカ、チタニア、カーボンブラック、フラーレン、カーボンナノチューブなどである。任意で、指紋は、採取テープを使用して採取することができる。
Claim (excerpt):
マトリックス支援質量分析法を使用することを特徴とする、指紋内の残留物の存在の判定方法。
IPC (3):
G01N 27/62 ,  G01N 27/64 ,  G01N 1/04
FI (5):
G01N27/62 V ,  G01N27/64 B ,  G01N27/62 Y ,  G01N27/62 F ,  G01N1/04 V
F-Term (22):
2G041AA10 ,  2G041CA01 ,  2G041DA03 ,  2G041DA04 ,  2G041DA19 ,  2G041EA01 ,  2G041FA07 ,  2G041FA10 ,  2G041FA30 ,  2G041GA09 ,  2G041JA07 ,  2G041JA08 ,  2G041KA01 ,  2G041LA20 ,  2G041MA04 ,  2G041MA10 ,  2G052AA28 ,  2G052AB23 ,  2G052AD09 ,  2G052AD49 ,  2G052BA23 ,  2G052GA24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page