光導波路及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：平田忠雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996179155
Publication number (International publication number)：1998020134
Application date： Jul. 09, 1996
Publication date： Jan. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】光導波路が簡単な工程によって短時間且つローコストに製作することができるようにする。【解決手段】基板1上に、バッファ層2、Fを添加したSiO2 層3を順次成膜する。SiO2 層3に対し、所定位置にレーザ光を照射してコア層4を形成する。更に、コア層4及びSiO2 層3を覆うようにFを添加したSiO2 層5を成膜する。レーザ光が照射されることにより、その熱エネルギーによって照射部分のSiO2 層の屈折率が変化するので、これをコア層4として用いることができる。

Claim (excerpt)：

基板と、前記基板上に形成され、屈折率制御用添加物が少なくとも1種添加された第1のSiO2 層と、前記第1のSiO2 層の所定位置にレーザ光を照射し、前記第1のSiO2 層より屈折率が高くなるように形成したコア層と、前記第1のSiO2 層及び前記コア層を覆うように設けられた第2のSiO2層とを具備することを特徴とする光導波路。

IPC (2)：

G02B 6/12 , G02B 6/13

FI (2)：

G02B 6/12 N , G02B 6/12 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

光導波路及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-225034 Applicant：住友電気工業株式会社
光学素子を含む物品及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-103350 Applicant：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
光導波路およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-336725 Applicant：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション

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