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J-GLOBAL ID：200903005742013593

反射防止組成物

Inventor：
エドワード・ケイ・パベルチェク

About エドワード・ケイ・パベルチェク

, 
ピーター・トレフォナス,ザサード

About ピーター・トレフォナス,ザサード


Applicant, Patent owner：
シップレーカンパニー エル エル シー

About シップレーカンパニー エル エル シー


Agent (1)： 千田 稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002136712
Publication number (International publication number)：2003114533
Application date： May. 13, 2002
Publication date： Apr. 18, 2003
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】向上された貯蔵性(すなわちシエルフライフ安定性)をはじめとする向上された特性を示す,上塗りされたフオトレジスト層とともに使用される新規な反射防止組成物。【解決手段】スルホン酸塩などのイオン性熱酸発生剤、樹脂および架橋成分を含有する反射防止組成物。本発明の反射防止組成物は反射防止組成物層上にフォトレジスト組成物層を施用される前に架橋される。又、本発明の反射防止組成物は、248nmおよび193nmをはじめとする上塗りされたフォトレジスト層の露光に使用される種々の波長において効果的に使用できる。
Claim (excerpt)：
イオン性熱酸発生剤および樹脂を含む反射防止組成物層、および該反射防止組成物層の上のフォトレジスト層、を含む被覆された基体。
IPC (4)：
G03F 7/11 503 ,  B05D 1/36 ,  B05D 5/06 104 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 7/11 503 ,  B05D 1/36 Z ,  B05D 5/06 104 E ,  H01L 21/30 574
F-Term (22)：
2H025AB16 ,  2H025DA34 ,  4D075AE03 ,  4D075BB26Z ,  4D075BB42Z ,  4D075CB02 ,  4D075CB03 ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075EA07 ,  4D075EA19 ,  4D075EA45 ,  4D075EB14 ,  4D075EB19 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4D075EB45 ,  4D075EB52 ,  4D075EB56 ,  4D075EC07 ,  5F046PA07 ,  5F046PA19
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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