プラズマ反応装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高田守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994027992
Publication number (International publication number)：1995235523
Application date： Feb. 25, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】プラズマが余り照射されないか、または全く照射されない領域に付着堆積した堆積反応生成物をもドライクリーニングによってエッチング除去する。【構成】ステージ電極2の異常放電を防止する絶縁部材19とウエハクランプ13とをドライクリーニング時に、上記絶縁部材19および上記ウエハクランプ13を移動しそれらの隠部をプラズマ発生領域に曝すようにしたものである。

Claim (excerpt)：

真空チャンバと、上記真空チャンバ内に配設された上部電極およびこれに対向に設けられたステージ電極と、上記真空チャンバと上記ステージ電極間に設けられた絶縁部材と、上記ステージ電極にウエハを固定するウエハクランプとを備え、上記ウエハクランプおよび上記絶縁部材を上記上部電極方向に移動し得るようにしたことを特徴とするプラズマ反応装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平3-183128
特開平2-228035
特開平2-010722

Show all

Return to Previous Page