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J-GLOBAL ID：200903005999225095

水ろ過処理装置およびその運転方法

Inventor：
深田 尚平

About 深田 尚平

, 
峯岸 寅太郎

About 峯岸 寅太郎


Applicant, Patent owner：
日本鋼管株式会社

About 日本鋼管株式会社


Agent (1)： 瀧野 秀雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997347889
Publication number (International publication number)：1999169851
Application date： Dec. 17, 1997
Publication date： Jun. 29, 1999
Summary：
【要約】【課題】 安定的に膜ろ過処理による処理水量を確保するとともに、目詰まりの進行を抑制することによって長期間の膜ろ過処理の連続運転を可能とする水ろ過処理装置およびその運転方法を提供することを目的とするものである。【解決手段】 被処理水を膜モジュールによってろ過する水ろ過処理装置であり、膜モジュール2に被処理水を供給される側に設けられた供給水圧センサ3によって検出された供給水圧と、膜モジュール2からのろ過水を透過水圧センサ4で検出した透過水圧とによる膜間差圧に基づいて、物理洗浄手段11による膜モジュール2の物理洗浄頻度を変える制御手段12を備えており、制御手段12により膜間差圧を算出して、膜間差圧に応じて、膜モジュール2の物理洗浄頻度を変えることで、膜モジュール2に付着する汚泥等を剥離して、膜間差圧を比較的安定なのもとし、以てろ過処理水を定流量供給するものである。
Claim (excerpt)：
被処理水を膜モジュールによってろ過する水ろ過処理装置において、前記膜モジュールに被処理水が供給される側の供給水圧と、前記膜モジュールからろ過水が透過してくる側の透過水圧との差で示される膜間差圧に基づいて、物理洗浄手段による前記膜モジュールの物理洗浄頻度を変える制御手段を有することを特徴とする水ろ過処理装置。
IPC (4)：
C02F 1/44 ,  B01D 61/18 ,  B01D 61/22 ,  B01D 65/02
FI (5)：
C02F 1/44 H ,  C02F 1/44 K ,  B01D 61/18 ,  B01D 61/22 ,  B01D 65/02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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