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J-GLOBAL ID：200903006064693585

圧電体素子、インクジェット式記録ヘッドおよびそれらの製造方法

Inventor： 角 浩二 ,  邱 宏
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 稲葉 良幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998341571
Publication number (International publication number)：2000174351
Application date： Dec. 01, 1998
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：

【要約】【課題】 クラックを生じない圧電体素子の結晶構造と製造方法を提供する。【解決手段】 圧電体薄膜層(41)をゾルから形成する際に、キレート剤としてモノエタノールアミンを使用する。これにより金属アルコキシドの加水分解が抑制され、微結晶粒(44)が多数生じる。微結晶粒が存在すると熱処理時に発生する応力が緩和されるために、クラックを発生すること無く柱状結晶(43)が成長し、厚い圧電体薄膜層(41)を形成可能である。

Claim (excerpt)：

下部電極および上部電極に挟持された圧電体薄膜を備える圧電体素子において、前記圧電体薄膜は、微結晶粒を包含する柱状結晶により構成されていることを特徴とする圧電体素子。

IPC (6)：

H01L 41/09 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/22

FI (5)：

H01L 41/08 C ,  B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H ,  H01L 41/18 101 D ,  H01L 41/22 Z

F-Term (15)：

2C057AF65 ,  2C057AF93 ,  2C057AG12 ,  2C057AG44 ,  2C057AG57 ,  2C057AG92 ,  2C057AG93 ,  2C057AP02 ,  2C057AP14 ,  2C057AP25 ,  2C057AP34 ,  2C057AP52 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 圧電体薄膜素子、その製造方法、及び圧電体薄膜素子を用いたインクジェット式記録ヘッド
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-245353   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 薄膜状誘電体およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-091182   Applicant：住友化学工業株式会社
• 圧電体薄膜素子、これを用いたインクジェット式記録ヘッド、並びに圧電体薄膜素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-096753   Applicant：セイコーエプソン株式会社