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J-GLOBAL ID：200903006129466042

投影露光装置

Inventor：
池田 正俊

About 池田 正俊


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 山口 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993252387
Publication number (International publication number)：1995086152
Application date： Sep. 14, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：
【要約】【目的】 投影光学系の他の光学素子ユニットに影響を及ぼすことなく、所望の光学素子ユニットのみを光学調整することのできる投影露光装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明の投影露光装置は、パターンが形成されたマスクを所定波長域の照明光で照明して、前記パターンの像を投影光学系を介して被投影基板上に結像させる投影露光装置において、前記投影光学系は、それぞれ1枚以上の光学素子を収容した複数の鏡筒ユニットを備え、前記鏡筒ユニットの各々は、前記投影光学系に着脱自在に取り付けられるように構成されていることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
パターンが形成されたマスクを所定波長域の照明光で照明して、前記パターンの像を投影光学系を介して被投影基板上に結像させる投影露光装置において、前記投影光学系は、それぞれ1枚以上の光学素子を収容した複数の鏡筒ユニットを備え、前記鏡筒ユニットの各々は、前記投影光学系に着脱自在に取り付けられるように構成されていることを特徴とする投影露光装置。
IPC (6)：
H01L 21/027 ,  G02B 7/02 ,  G02B 27/18 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G03G 15/04 111
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
  • 特開昭63-202707
  • 特開平4-208514
  • 特開平3-155512
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