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J-GLOBAL ID：200903006171706550

剥離性雰囲気でのインプリントリソグラフィー方法及び装置

Inventor： 古室 昌徳 ,  谷口 淳 ,  廣島 洋
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  学校法人東京理科大学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001299291
Publication number (International publication number)：2003109915
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Apr. 11, 2003
Summary：

【要約】【課題】 モールド表面にレジスト層付着防止用の剥離性材料を塗布する作業を行うことなく、モールド表面に自動的に剥離性材料を付着可能とする。【解決手段】 真空作業室1には、定盤2上に基材移動ステージ3が水平面内に移動自在に配置され、基材移動ステージ3上には基材保持部材4によって、表面にレジスト層5を備えたシリコン基板6を保持している。真空作業室1内にはモールド7を上下動させ、モールド下面の凹凸パターン8をその下方に位置するレジスト層5に押しつけるためのモールド駆動ステージ9を固定している。真空作業室1は排気装置11によって真空にされ、剥離性材料供給装置15から剥離性ガスを供給する。モールド7がレジスト層5から離れているときには、表面の周囲に存在する剥離性材料が付着し、モールド7によるレジスト層5に対する転写を複数回行っても、常にモールド表面に剥離性材料を維持することができる。

Claim (excerpt)：

モールドに形成した凹凸形状を基材表面上のレジスト層に転写するインプリントリソグラフィーを、レジスト層がモールド表面に付着することを防止する剥離性材料の雰囲気中で行うことを特徴とする剥離性雰囲気でのインプリントリソグラフィー方法。

F-Term (1)：

5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平4-074623
  
• 二次元位相型光学素子の作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-012881   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開平2-289311
  
• 特開平4-074623
  
• 特開平2-289311