2光子吸収重合方法、2光子吸収光記録材料及び2光子吸収光記録方法。

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004199006
Publication number (International publication number)：2005097538
Application date： Jul. 06, 2004
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：

【課題】2光子吸収可能な光を照射して潜像を形成する第1の工程と、その潜像により重合を起こす第2の工程を有する2光子吸収重合方法又は2光子吸収光記録方法を提供すること。【解決手段】(1)少なくとも、2光子吸収可能な光を照射して潜像を形成する第1の工程と、その潜像を励起することにより重合を起こす第2の工程を有する2光子吸収重合方法。(2)少なくとも、2光子吸収により発色体潜像を生成する第1の工程と、その発色体潜像に光を照射して発色体の線形吸収に基づく重合を起こすことにより、屈折率差を形成して記録する第2の工程を有する2光子吸収光記録方法。【選択図】選択図なし

Claim (excerpt)：

少なくとも、2光子吸収可能な光を照射して潜像を形成する第1の工程と、その潜像を励起することにより重合を起こす第2の工程を有することを特徴とする2光子吸収重合方法。

IPC (5)：

C08F2/46 , C08G59/00 , G03C1/73 , G11B7/0045 , G11B7/24

FI (5)：

C08F2/46 , C08G59/00 , G03C1/73 , G11B7/0045 Z , G11B7/24 516

F-Term (25)：

2H123AE00 , 2H123AE01 , 4J011AC04 , 4J011QA01 , 4J011QA03 , 4J011QA33 , 4J011QA39 , 4J011SA87 , 4J011SA88 , 4J011UA01 , 4J011UA02 , 4J011UA06 , 4J036AD08 , 4J036AG07 , 4J036AG13 , 4J036AJ09 , 4J036AJ21 , 4J036GA24 , 4J036HA02 , 4J036JA15 , 5D029JA04 , 5D090BB17 , 5D090CC01 , 5D090CC14 , 5D090DD01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

蛍光性光メモリー
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-524955 Applicant：オーエムディーデヴァイセスエルエルシー
蛍光性感光材料を備えた3次元光メモリ
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多光子励起感光性フォトポリマー組成物およびその露光方法
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Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-212310 Applicant：富士写真フイルム株式会社
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