Pat

J-GLOBAL ID：200903097807319328

屈折率分布型光学成形体の製造方法

Inventor： 渡邊敏行 ,  梁 傳信 ,  町田 英明 ,  木曽 幸一 ,  加田 武史 ,  宮田 清蔵 ,  小原 淳史
Applicant, Patent owner： 渡邊 敏行 ,  宮田 清藏 ,  株式会社トリケミカル研究所
Agent (1)： 吉田 芳春
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998218382
Publication number (International publication number)：2000047046
Application date： Jul. 31, 1998
Publication date： Feb. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】 微細な領域で屈折率を任意に制御でき、従来と比較して大きい光学成形体にも対応できる屈折率分布型光学成形体の製造方法を提供すること。【解決手段】 光学成形体にレーザー光を照射し、照射した領域に非共鳴多光子励起による光化学反応を誘起することにより屈折率を変化させる方法からなる。照射する位置によって照射時間もしくは/及び光強度を連続的、もしくは不連続的に変化させることにより、GI型光ファイバーをはじめ、各種GRINレンズ、光回折格子、光集積回路などを作製することができる。この方法は従来の光化学反応による屈折率制御と比較して、光学成形体に吸収のない波長域の光を照射するため、吸収による光の減衰がない。したがって大口径の屈折率分布型レンズ等にも応用することができる。

Claim (excerpt)：

光学成形体にレーザー光を照射して非共鳴多光子励起による光化学反応を誘起することにより屈折率を制御することを特徴とする屈折率分布型光学成形体の製造方法。

IPC (4)：

G02B 6/13 ,  G02B 3/00 ,  G02B 6/00 366 ,  G02B 6/12

FI (5)：

G02B 6/12 M ,  G02B 3/00 A ,  G02B 3/00 B ,  G02B 6/00 366 ,  G02B 6/12 N

F-Term (20)：

2H047AA04 ,  2H047AA08 ,  2H047BB00 ,  2H047BB03 ,  2H047BB12 ,  2H047EE01 ,  2H047EE02 ,  2H047EE11 ,  2H047EE15 ,  2H047EE17 ,  2H047EE21 ,  2H047EE24 ,  2H047EE30 ,  2H047GG04 ,  2H047GG05 ,  2H050AA11 ,  2H050AA20 ,  2H050AB05Z ,  2H050AB43Z ,  2H050AC06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

• 光学的データ記憶体並びにこの記録装置及び記録再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-153311   Applicant：有限会社千里応用計測研究所
• 光導波路系の作製方法およびそれを用いた光デバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-154697   Applicant：富士通株式会社
• ファイバグレーティングの作成方法及び光ファイバ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-189865   Applicant：住友電気工業株式会社
• 光導波路型レーザ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-147298   Applicant：日本電信電話株式会社
• 光回路の特性調整方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-093125   Applicant：日本電信電話株式会社
• 光回路及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-207882   Applicant：日本電信電話株式会社
• 特開平4-298702
  
• 特表平7-501168
  
• レーザによる光反応の制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-306164   Applicant：理化学研究所
• ポリマ導波路及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-200562   Applicant：日立電線株式会社
• 屈折率分布型光学材料、及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-339530   Applicant：宮田清藏, 株式会社トリケミカル研究所
• 特開昭63-091604
  
• 光限定可能な光導波管
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平6-515220   Applicant：アモコ・コーポレーション

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

• 光技術コンタクト, 19980320, Vol.36, No.3, p.124-129
• 光技術コンタクト, 19980320, Vol.36, No.3, p.106-114
• Science, 19890825, Vol.245, p.843-845
• Applied Optics, 19900510, Vol.29, No.14, p.2058-2066
• Optics Letters, 19911115, Vol.16, No.22, p.1780-1782
• 1997年(平成9年)春季第44回応用物理学関係連合講演会予稿集, 19970328, 第3分冊, p.1075 (講演番号30p-NF-13)
• Applied Physics Letters, 19901231, Vol.57, No.27, p.2876-2878
• Japanese Journal of Applied Physics, 199804, Vol.37, Part 1, No.4B, p.2263-2266
• レーザ顕微鏡研究会講演会論文集, 199805, Vol.21st, p.30-37
• Optics Letters, 19980515, Vol.23, No.10, p.756-758
• Applied Physics Letters, 19941121, Vol.65, No.21, p.2648-2650
• Applied Physics Letters, 19890918, Vol.55, No.12, p.1161-1163