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J-GLOBAL ID：200903006696743197

TOFMS用サンプルプレート及びその処理方法、並びにTOFMSによる分析方法

Inventor：
山口 亮

About 山口 亮

, 
権田 誠

About 権田 誠


Applicant, Patent owner：
株式会社島津製作所

About 株式会社島津製作所


Agent (1)： 野口 繁雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003146341
Publication number (International publication number)：2004347524
Application date： May. 23, 2003
Publication date： Dec. 09, 2004
Summary：
【課題】イオン化法にMALDI法を用いた質量分析装置において、サンプルをサンプルプレート上で均一な高さ及び分布になるように調製する。【解決手段】ステンレス製のサンプルプレートの試料載置面をプラズマ処理することにより親水性をもたせた。測定サンプルはカスタム合成DNA(100mer)を使用、滅菌水に溶解し20pmol/μlの濃度に調製した。マトリックス溶液は3-Hydroxypicolinic acid(0.7M)とアンモニウムクエン酸塩(0.07M)を50%CH3CNに溶解して調製したDNA水溶液とマトリックス溶液をあらかじめ混合したのち、その混合液を、上に示したようにプラズマ処理することにより親水性をもたせたサンプルプレート上に0.5μl滴下し、乾燥させて測定サンプルとした。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
TOFMSで分析用サンプルを載せる金属製サンプルプレートにおいて、 そのサンプル載置面がその金属自体による親水性よりも大きな親水性をもっていることを特徴とするサンプルプレート。
IPC (2)：
G01N27/62 ,  H01J49/04
FI (3)：
G01N27/62 F ,  G01N27/62 K ,  H01J49/04
F-Term (3)：
5C038EE02 ,  5C038EF15 ,  5C038EF21
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 特許第6287872号
  • 特許第6287872号
  • 表面処理方法及びその装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-208570   Applicant：株式会社ブリヂストン, 岡崎幸子, 小駒益弘
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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