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J-GLOBAL ID：200903006924237493

帯電防止膜、この膜を用いるリソグラフィー用マスクブランク及びリソグラフィー用マスク

Inventor：
坂井 裕之

About 坂井 裕之

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折田 政寛

About 折田 政寛

, 
竹内 恵

About 竹内 恵


Applicant, Patent owner：
ホーヤ株式会社

About ホーヤ株式会社


Agent (1)： 塩澤 寿夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995135295
Publication number (International publication number)：1996325560
Application date： Jun. 01, 1995
Publication date： Dec. 10, 1996
Summary：
【要約】【目的】 短波長側の透過率が良好で、充分な導電性を有する帯電防止膜、これを用いたリソグラフィー用マスクブランク及びマスクの提供。【構成】 一般式M(1)x M(2)y Inz O(x+3y/2+3z/2)-d (式中、M(1)はMg及びZnのうちの少なくとも1つの元素であり、M(2)はAl及びGaのうちの少なくとも1つの元素であり、比率(x:y)が0.2〜1.8:1の範囲であり、比率(z:y)が0.4〜1.4:1の範囲であり、かつ酸素欠損量dが(x+3y/2+3z/2) の3×10-5〜1×10-1倍の範囲である)で表される帯電防止膜。前記一般式(但し、dの下限は0)で表され、かつM(1)、M(2)及びInのうちの少なくとも1種の元素の一部が、他の元素で置換されており、M(1)と置換される元素は原子価が2価以上であり、M(2)及びInと置換される元素は原子価が3価以上である帯電防止膜。前記一般式(但し、dの下限は0)で表される酸化物に、陽イオンを注入したものである帯電防止膜。上記帯電防止膜を用いたリソグラフィー用マスクブランク及びマスク。
Claim (excerpt)：
一般式M(1)x M(2)y Inz O(x+3y/2+3z/2)-d (式中、M(1)はマグネシウム及び亜鉛のうちの少なくとも1つの元素であり、M(2)はアルミニウム及びガリウムのうちの少なくとも1つの元素であり、比率(x:y)が0.2〜1.8:1の範囲であり、比率(z:y)が0.4〜1.4:1の範囲であり、かつ酸素欠損量dが(x+3y/2+3z/2) の3×10-5〜1×10-1倍の範囲である)で表される導電性酸化物からなることを特徴とする帯電防止膜。
IPC (3)：
C09K 3/16 101 ,  C01G 15/00 ,  G03F 1/14
FI (4)：
C09K 3/16 101 A ,  C01G 15/00 B ,  C01G 15/00 D ,  G03F 1/14 G
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (1)
  • 透明導電性酸化物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-346953   Applicant：ホーヤ株式会社

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