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J-GLOBAL ID：200903006928166370

ポジ型ホトレジスト組成物

Inventor： 大野 勇人 ,  河野 紳一 ,  増田 靖男 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 服部 平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996166618
Publication number (International publication number)：1997325476
Application date： Jun. 07, 1996
Publication date： Dec. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】感度、残膜率及び耐熱性に優れたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)アルカリ可溶性クレゾールノボラック樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を含むポジ型ホトレジスト組成物において、前記(A)成分が、メタクレゾール及びアルデヒド類、又はメタクレゾール、パラクレゾール及びアルデヒド類を酸触媒下にて反応(1次反応)して得られるクレゾールノボラック樹脂低分子量縮合物に、メタクレゾール及びパラクレゾールから選ばれる少なくとも1種、又はメタクレゾール及びパラクレゾールから選ばれる少なくとも1種とアルデヒド類を加え、さらに反応(2次反応)させて得られるクレゾールノボラック樹脂であって、メタクレゾールとパラクレゾールのモル比が1次反応時に10/0〜4/6の範囲にあり、2次反応時に8/2〜2/8の範囲内にあり、かつ該クレゾールノボラック樹脂の重量平均分子量が1次反応終了時に3,000以下であり、最終生成物で3,500〜20,000であることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性クレゾールノボラック樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を含むポジ型ホトレジスト組成物において、前記(A)成分が、メタクレゾール及びアルデヒド類、又はメタクレゾール、パラクレゾール及びアルデヒド類を酸触媒下にて反応(1次反応)して得られるクレゾールノボラック樹脂低分子量縮合物に、メタクレゾール及びパラクレゾールから選ばれる少なくとも1種、又はメタクレゾール及びパラクレゾールから選ばれる少なくとも1種とアルデヒド類を加え、さらに反応(2次反応)させて得られるクレゾールノボラック樹脂であって、メタクレゾールとパラクレゾールのモル比が1次反応時に10/0〜4/6の範囲にあり、2次反応時に8/2〜2/8の範囲内にあり、かつ該クレゾールノボラック樹脂の重量平均分子量が1次反応終了時に3,000以下であり、最終生成物で3,500〜20,000であることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 高度にオルソ-オルソ結合したノボラックバインダー樹脂および放射線感受性組成物中のその利用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-094115   Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-185683   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ポジ型フオトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-007762   Applicant：富士写真フイルム株式会社